[发明专利]显示基板及其制备方法

说明书

提供了一种显示基板及其制备方法，该显示基板的制备方法包括：在衬底之上形成像素支撑层；在所述像素支撑层上放置掩膜版，通过所述掩膜版在所述衬底之上形成发光结构层；移除所述掩膜版；去除所述像素支撑层；以解决由于像素支撑层导致的显示基板出现多暗点不良的问题。

技术领域

本发明涉及触控技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称：OLED)为主动发光显示器件，具有自发光、广视角、高对比度、低功耗、宽色域、轻薄化、可异形化等优点。随着显示技术的不断发展，OLED技术越来越多的应用于柔性显示和透明显示中。透明显示是显示技术的一个重要分支，是指在透明状态下进行图像显示，观看者不仅可以看到显示装置中的影像，而且可以看到显示装置背后的景象，可实现虚拟现实/增强现实(Virtual Reality/Augmented Reality，VR/AR)和3D显示功能。目前，有机发光二极管显示基板的显示区域容易出现多暗点不良的问题。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法，以解决由于像素支撑层导致的显示基板出现多暗点不良的问题。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：

在衬底之上形成像素支撑层；

在所述像素支撑层上放置掩膜版，通过所述掩膜版在所述衬底之上形成发光结构层；

移除所述掩膜版；

去除所述像素支撑层。

在一些可能的实现方式中，去除所述像素支撑层之后，还包括：

在所述发光结构层上形成封装层。

在一些可能的实现方式中，所述在衬底之上形成像素支撑层，包括：

在所述衬底之上沉积光刻胶薄膜；

通过光源照射，使所述光刻胶薄膜的部分区域形成曝光区域，使所述光刻胶薄膜另一部分区域形成未曝光区域；

通过显影工艺，将所述未曝光区域的光刻胶薄膜去除，将所述曝光区域的光刻胶薄膜保留，所述曝光区域的光刻胶薄膜形成所述像素支撑层。

在一些可能的实现方式中，所述像素支撑层的材料采用负性感光光刻胶。

在一些可能的实现方式中，所述像素支撑层的竖截面呈倒梯形。

在一些可能的实现方式中，所述发光结构层在所述像素支撑层处断裂，使所述像素支撑层至少一侧的侧壁暴露。

在一些可能的实现方式中，去除所述像素支撑层，包括：

将所述像素支撑层浸入剥离液中，使所述剥离液与所述像素支撑层暴露的侧壁接触，将所述像素支撑层从所述衬底之上剥离。

在一些可能的实现方式中，所述形成发光结构层，包括：

在所述衬底之上形成空穴注入层；

在所述空穴注入层之上形成空穴传输层；

在所述空穴传输层之上形成电子阻挡层；

在所述电子阻挡层之上形成发光层；

在所述发光层之上形成空穴阻挡层；

在所述空穴阻挡层之上形成电子传输层；

在所述电子传输层之上形成电子注入层；

在所述电子注入层之上形成阴极；

在所述阴极之上形成光提取层；