[发明专利]一种3D微/纳米结构的构筑方法

权利要求书

1.一种3D微/纳米结构的构筑方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)在基板上固定材料源，抽真空处理；

(2)聚焦电子束的焦点在上述步骤(1)的材料源表面0-100nm的距离处，加速电压为1-30kV，工作距离3-20mm，电子束束斑1-50nm，形成包含有电子束焦点和表层原子的界面局域区；

(3)控制电子束的焦点按照设计的3D微/纳米结构逐点移动，实现3D微/纳米结构的构筑。

2.根据权利要求1所述一种3D微/纳米结构的构筑方法，其特征在于，上述步骤(1)中材料源的材质为金属单质、金属原子和其他非金属原子构成的化合物中的一种。

3.根据权利要求2所述一种3D微/纳米结构的构筑方法，其特征在于，所述材料源为块状固体、薄膜、棒材、纳米线组成的粉体、纳米颗粒组成的粉体、纳米带组成的粉体中的一种。

4.根据权利要求1所述一种3D微/纳米结构的构筑方法，其特征在于，上述步骤(1)的基板为导体或者半导体材质。

5.根据权利要求1所述一种3D微/纳米结构的构筑方法，其特征在于，上述步骤(1)中抽真空至10^-3-10^-5Pa。

6.根据权利要求1所述一种3D微/纳米结构的构筑方法，其特征在于，上述步骤(3)中结合位移平台和聚焦扫描控制程序，控制电子束的焦点按设计的3D微/纳米结构逐点移动。