[发明专利]一种基于PN结芯片的高压电弧监测系统及其制备方法有效
申请号: | 202010545105.0 | 申请日: | 2020-06-16 |
公开(公告)号: | CN111834484B | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 王顺利;刘俊飞 | 申请(专利权)人: | 金华紫芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/072 | 分类号: | H01L31/072;H01L31/032;H01L31/18 |
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地址: | 321000 浙江省金华市金*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 pn 芯片 高压 电弧 监测 系统 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及一种基于PN结芯片的高压电弧监测系统及其制备方法,由氧化镓基PN结光电芯片、Ti/Au圆形薄膜电极、紫外光电探测外围电路、指示灯和NB通信模块组成;氧化镓基PN结光电芯片包括蓝宝石单晶衬底、n型β‑Ga2O3薄膜、p型Sm2O3薄膜,其中β‑Ga2O3薄膜的厚度为300‑500nm,位于蓝宝石单晶衬底的上方,并且面积相同,Sm2O3薄膜的厚度为300‑500nm,位于β‑Ga2O3薄膜的上方,面积为β‑Ga2O3薄膜的一半,与Sn:β‑Ga2O3薄膜形成Sm2O3/β‑Ga2O3PN结结构;Ti/Au圆形薄膜电极,直径为2mm;Ti/Au圆形薄膜电极包括Ti薄膜电极、Au薄膜电极,Au薄膜电极在Ti薄膜电极的上方,Ti薄膜电极稍微厚度为20‑30nm,Au薄膜电极的厚度为60‑90nm。光电芯片性能稳定,响应度和灵敏度高,暗电流小,具有很大的应用前景。
技术领域
本发明涉及一种高压电弧监测系统,具体是指一种基于PN结芯片的高压电弧监测系统及其制备方法。
技术背景
电弧是一种气体放电现象,电流通过某些绝缘介质(例如空气)所产生的瞬间火花,这些现象长时间出现会损害高压设备,引发电力系统瘫痪,对电力系统造成严重的危害。此外,电弧放电也会严重地影响人身安全。因此,如何准确、及时、有效地检测电弧放电的位置及强弱对保证电力系统可靠运行、减少设备损坏和确保人身安全具有重要的意义。
电弧放电的监测通常有人工目视检查、远红外望远镜、超声波电晕检测和日盲紫外检测技术等,由于太阳光中含有很强的红外线,用红外线望远镜观察误检率较高,而超声波电晕检测装置探测距离较近,在使用中的人为影响因素较多,检测误差较大。日盲紫外检测技术是近几年来新兴的一种电弧检测方式,可以检测电弧放电发出的200-280nm波段深紫外光谱,而不受太阳光中300~360nm波段的紫外线干扰,检测精度高。
发明内容
本发明的目的是提供一种灵敏度高、稳定性好,可以远程监测高压电弧、电晕发出的紫外线强度等信息,并远程发送到电网监控端的高压电弧监测系统及制备方法。
本发明的技术方案为:
一种基于PN结芯片的高压电弧监测系统,其特征在于由氧化镓基PN结光电芯片、Ti/Au圆形薄膜电极、紫外光电探测外围电路、指示灯和NB通信模块组成;所述的氧化镓基PN结光电芯片包括蓝宝石单晶衬底、n型β-Ga2O3薄膜、p型Sm2O3薄膜,其中β-Ga2O3薄膜的厚度为300-500nm,位于蓝宝石单晶衬底的上方,并且面积相同,Sm2O3薄膜的厚度为300-500nm,位于β-Ga2O3薄膜的上方,面积为β-Ga2O3薄膜的一半,与β-Ga2O3薄膜形成Sm2O3/β-Ga2O3 PN结结构,所述的Ti/Au圆形薄膜电极,直径为2mm;Ti薄膜电极厚度为20-30nm,Au薄膜电极在Ti薄膜电极的上方,厚度为60-90nm;
所述一种基于PN结芯片的高压电弧监测系统的制作方法具有如下步骤:
(1)氧化镓基PN结光电芯片的制备:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的