[发明专利]一种光阑及其制备方法在审
| 申请号： | 202010546541.X | 申请日： | 2020-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN111624689A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 陈怀熹;梁万国;张新彬;冯新凯;李广伟;古克义;黄玉宝 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 张梅娟 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光阑 及其 制备 方法 | ||
1.一种光阑的制备方法，其特征在于，包括：
制备光阑矢量图对应的掩膜板；
在光阑基底的表面设置反射膜层；
在所述反射膜层上涂覆光刻胶，将所述掩膜板与所述光阑基底对准，依次进行曝光和显影，得到具有光阑矢量图图案的掩膜层；
利用刻蚀方法刻蚀具有掩膜层的所述光阑基底，得到光阑图案。
2.根据权利要求1所述的光阑的制备方法，其特征在于，利用刻蚀方法刻蚀具有掩膜层的所述光阑基底，得到光阑图案之后，还包括：
在所述光阑基底远离所述反射膜层的表面设置增透膜。
3.根据权利要求2所述的光阑的制备方法，其特征在于，所述光阑矢量图的形状为渐变锯齿状、渐变透射点状、渐变牛顿环状中的一种。
4.根据权利要求1所述的光阑的制备方法，其特征在于，所述反射膜层为高损伤阈值反射膜层。
5.根据权利要求1所述的光阑的制备方法，其特征在于，所述光阑基底的材料为石英、高损伤阈值晶体窗口材料或者金属薄板中的一种。
6.根据权利要求1所述的光阑的制备方法，其特征在于，所述掩膜层的厚度大于或等于所述反射膜层的厚度。
7.根据权利要求1所述的光阑的制备方法，其特征在于，在所述利用刻蚀方法刻蚀具有掩膜层的所述光阑基底，得到光阑图案之后，还包括：
清洗已刻蚀完成的所述光阑基底上的残余掩膜层。
8.根据权利要求1～7任一项所述的光阑的制备方法，其特征在于，所述利用刻蚀方法刻蚀具有掩膜层的所述光阑基底，具体为：
利用离子刻蚀方法刻蚀具有掩膜层的所述光阑基底。
9.根据权利要求1所述的光阑的制备方法，其特征在于，所述在光阑基底的表面设置反射膜层之前还包括：
清洗所述光阑基底。
10.一种光阑，其特征在于，由权利要求1～9任一项所述的光阑的制备方法制备得到。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院福建物质结构研究所，未经中国科学院福建物质结构研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010546541.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
