[发明专利]一种面向晶圆扫描平台的精密鲁棒控制方法及系统有效

专利信息
申请号: 202010546633.8 申请日: 2020-06-16
公开(公告)号: CN112462601B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 匡治安;于兴虎;高会军 申请(专利权)人: 宁波智能装备研究院有限公司
主分类号: G05B13/04 分类号: G05B13/04
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 杜阳阳
地址: 315000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 面向 圆扫描 平台 精密 鲁棒控制 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种面向晶圆扫描平台的精密鲁棒控制方法,其特征在于,包括:

建立晶圆扫描平台系统模型,所述晶圆扫描平台系统模型的输入为晶圆扫描平台控制器的输出,输出为晶圆扫描平台的位置,该晶圆扫描平台系统模型表示为其中是晶圆扫描平台的加速度,v是晶圆扫描平台的速度,Kv是粘滞摩擦力项,K是驱动力与电流的比值,m为晶圆扫描平台的质量,u是控制器的输出,d是系统中存在的噪声和不确定性;

获取所述晶圆扫描平台系统实际位置的反馈信号和所述晶圆扫描平台系统参考位置的参考信号;

根据所述反馈信号和所述参考信号,确定晶圆扫描平台的位置误差;

根据所述位置误差,设计分数阶滑模面:

其中,k1、k2和ξ均为需要调整的面向晶圆扫描平台的控制器参数,0ξ1,Dξ-1为分数阶微分算子,sig(·)*=sgn(·)|·|*,a为0到1之间的常数,s为滑模变量,e为晶圆扫描平台的位置误差;

对所述分数阶滑模面进行求导处理,得到求导处理后的数据;

根据所述求导处理后的数据和所述晶圆扫描平台系统模型,得到等效控制率;

确定趋近控制率;

根据所述等效控制率和所述趋近控制率,确定最终控制率;

根据所述最终控制率对晶圆扫描平台控制器的相关参数进行调整。

2.根据权利要求1所述的面向晶圆扫描平台的精密鲁棒控制方法,其特征在于,所述根据所述反馈信号和所述参考信号,确定晶圆扫描平台的位置误差,具体包括:

根据所述反馈信号和所述参考信号采用公式e=p-r,确定晶圆扫描平台的位置误差;

其中,p为晶圆扫描平台实际位置的反馈信号,r为晶圆扫描平台参考位置的参考信号,e为晶圆扫描平台的位置误差。

3.根据权利要求1所述的面向晶圆扫描平台的精密鲁棒控制方法,其特征在于,所述确定趋近控制率,具体包括:

设计变增益函数

其中,a1、a2、b1和b2均为待调整的参数;

设计趋近控制率表达式,所述趋近控制率表达式为:

其中,Φ1(s)=|s|α(s)sgn(s),为驱动力与电流比值的标称值;

根据所述趋近控制率表达式,确定趋近控制率。

4.根据权利要求1所述的面向晶圆扫描平台的精密鲁棒控制方法,其特征在于,所述根据所述等效控制率和所述趋近控制率,确定最终控制率,具体包括:

根据所述等效控制率和所述趋近控制率采用公式u=ueq+usw,确定最终控制率;

其中,u为最终控制率,ueq为等效控制率,usw为趋近控制率。

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