[发明专利]一种高温釉中金的烧制工艺

说明书

本发明涉及一种高温釉中金的烧制工艺，其釉烧温度为1000℃‑‑1050℃，釉烧时降温采取快速降温的方式，降温速率为180‑‑200℃/min。所述烧制工艺包括如下步骤：制坯、上釉、素烧、描金和╱或印金、釉烧。其采用电窑烧制。并且其通过调节散热孔和窑门以及烟筒来达到快速降温的目的。通过采用本发明的高温釉中金烧制工艺，使烧成率从不足50％达到100％。釉面的光泽度和鲜艳度均提高。

技术领域

本发明涉及一种陶瓷烧制领域，特别涉及一种高温釉中金的烧制工艺。

背景技术

高温釉中金技术是通过高温让表层釉面变软，使金面浸入釉中，形成高温釉中金效果。所形成的金面不但光亮平滑，经久耐磨，且更抗腐蚀、抗氧化。高温釉中金技术，瓷器与人的日常相伴，将历久弥新。但是现有的高温釉中金的烧制过程存在许多缺陷和不足，烧成率很多都不足50％，釉面的光泽度和鲜艳度也欠佳，在烧制过程中还经常出现流釉的问题。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种高温釉中金的烧制工艺。

本发明的一种高温釉中金的烧制工艺，其釉烧温度为1000℃-1050℃，釉烧时降温采取快速降温的方式，降温速率为180-200℃/min。

经过本发明试验发现降温速率对釉面的光泽度和鲜艳度影响很大。采用本发明的快速降温的方法，能极大提高釉面的光泽度和鲜艳度。

优选所述工艺的步骤包括制坯、上釉、素烧、描金或印金、釉烧。

优选所述釉烧温度为1050℃或1000℃。

优选所述釉烧时的降温速率为190℃/min。

优选采用电窑烧制。因为电窑烧成的气氛为中性气氛，天然气加热的气氛影响釉面的光泽度。

优选其烧制过程中的温控程序为：

从室温—670℃，升温速率为420-440℃/h；

670℃—790℃，升温速率为110-130℃/h；

790℃—1050℃，升温速率为130-150℃/h；

1050℃保温10min后采取快速降温的方式以180-200℃/min降温。

进一步优选其釉烧的温控程序为：

从室温—670℃，升温速率为433℃/h；

670℃—790℃，升温速率为120℃/h；

790℃—1000℃，升温速率为140℃/h；

1050℃保温10min采取快速降温的方式以190℃/min降温。

本发明釉烧时的快速降温通过调节散热孔和窑门开的大小以及烟筒来实现。

有益效果

本发明通过合理地调节高温釉中金的烧成工艺，特别是控制其釉烧的温控程序，使最终的烧成率从不足50％达到100％。釉面的光泽度和鲜艳度均提高。

具体实施方式

为便于理解本发明，本发明列举实施例如下。本领域技术人员应该明了，所述实施例仅仅用于帮助理解本发明，不应视为对本发明的具体限制。如无具体说明，本发明的各种原料均可以通过市售得到，或根据本领域的常规方法制备得到；本发明的生产工艺中所用的设备均可采用本领域中的公知设备，本发明没有特别说明的生产工艺均为本领域中公知的生产工艺，在此不再对具体的生产设备和工艺进行赘述。除非另有定义或说明，本文中所使用的所有专业与科学用语与本领域技术熟练入员所熟悉的意义相同。