[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板具有显示区和绑定区，所述阵列基板的制作方法包括：

在衬底基板母板上制作金属层，所述金属层位于所述绑定区以外的区域，且至少覆盖所述显示区；

在所述衬底基板母板上形成透明图案，所述透明图案至少部分地覆盖所述金属层以外的区域，且至少位于所述绑定区；所述透明图案靠近所述衬底基板母板的表面与所述金属层靠近所述衬底基板母板的表面平齐，且所述透明图案的厚度小于或等于所述金属层的厚度；所述透明图案用于将所述衬底基板母板限定的区域中未被所述金属层覆盖的区域全部覆盖或部分覆盖，以降低所述衬底基板母板上所述金属层的去除区域内凹陷的面积；所述金属层的去除区域为所述金属层以外的区域；

在形成有所述金属层和所述透明图案的衬底基板母板上，涂覆光刻胶；所述光刻胶覆盖所述金属层和所述透明图案；

利用压印模板对所述光刻胶进行压印，在灰化后形成光刻胶图案层，所述光刻胶图案层包括平行设置的多条胶线，相邻两条胶线之间具有间隙；

对所述金属层中对应所述间隙的部分进行刻蚀，以形成金属线栅偏振片。

2.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板母板上形成透明图案之后，所述阵列基板的制作方法还包括：

形成覆盖所述透明图案和所述金属层的无机材料薄膜；

所述在形成有所述金属层和所述透明图案的衬底基板母板上，涂覆光刻胶包括：在所述无机材料薄膜上涂覆光刻胶；

在形成光刻胶图案层之后，在所述对所述金属层中对应所述间隙的部分进行刻蚀之前，所述阵列基板的制作方法还包括：对所述无机材料薄膜中对应所述间隙的部分进行刻蚀，以形成硬掩膜。

3.一种阵列基板，其特征在于，由权利要求1或2所述的阵列基板的制作方法制成；

所述阵列基板具有显示区和绑定区，所述阵列基板包括：

衬底基板；

设置在所述衬底基板上的金属线栅偏振片，所述金属线栅偏振片位于所述绑定区以外的区域，且至少覆盖所述显示区；

设置在所述衬底基板上的透明图案，所述透明图案至少部分地覆盖所述金属线栅偏振片以外的区域，且所述透明图案靠近所述衬底基板的表面与所述金属线栅偏振片靠近所述衬底基板的表面平齐，且所述透明图案的厚度小于或等于所述金属线栅偏振片的厚度。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，还包括：

硬掩膜，所述硬掩膜位于所述透明图案和所述金属线栅偏振片远离所述衬底基板的一侧，且所述硬掩膜与所述透明图案和所述金属线栅偏振片接触。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，

所述硬掩膜的材料为氧化硅或者氮化硅。

6.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，还包括：

像素电路层，所述像素电路层设置在所述衬底基板上；

所述金属线栅偏振片设置在所述衬底基板远离所述像素电路层的一侧。

7.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还具有封装区；

所述金属线栅偏振片位于所述显示区和所述封装区，所述透明图案位于所述绑定区。

8.一种显示装置，其特征在于，包括：

相对设置的第一基板和第二基板；

位于所述第一基板和所述第二基板之间的第一液晶层；

位于所述第二基板远离所述第一基板一侧的第三基板；

以及位于所述第二基板和所述第三基板之间的第二液晶层；

其中，所述第二基板和所述第三基板中的至少一个为权利要求3～7任一项中所述的阵列基板。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，

所述第二基板和所述第三基板均为所述阵列基板。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，

所述第二基板中的金属线栅偏振片的透振方向和所述第三基板中的金属线栅偏振片的透振方向相互垂直。