[发明专利]显示面板及其制备方法有效
申请号: | 202010551710.9 | 申请日: | 2020-06-17 |
公开(公告)号: | CN111900185B | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 孙佳佳 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何辉 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
阵列基板,所述阵列基板包括一阵列区和一空置区;
第一阳极层,所述第一阳极层设置于所述阵列区上,所述第一阳极层与所述阵列基板电连接;
像素定义层,所述像素定义层设置于所述阵列基板的阵列区和所述第一阳极层上,所述像素定义层包括若干通孔,所述通孔贯穿所述像素定义层以暴露所述第一阳极层,所述像素定义层包括第一区域,所述第一区域位于所述空置区的侧边;
第二阳极层,所述第二阳极层设置于所述像素定义层的第一区域上,所述第二阳极层位于所述通孔中的所述像素定义层朝向所述空置区的表面,所述第一阳极层和所述第二阳极层相互绝缘;
发光层,所述发光层包括若干第一发光部,每一所述第一发光部设置于一所述通孔中,所述第一发光部覆盖并电连接所述第一阳极层和第二阳极层;以及
阴极层,所述阴极层设置于所述像素定义层和所述发光层上,所述阴极层与所述发光层电连接。
2.如权利要求 1所述的显示面板,其特征在于,所述第二阳极层包括若干第二阳极,每一所述第二阳极包括一延伸部,所述延伸部位于所述像素定义层的上表面,在所述延伸部和所述阴极层之间具有绝缘层。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一区域围绕所述空置区。
4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括若干第一晶体管和若干第二晶体管,所述第一晶体管电连接所述第一阳极层,所述第二晶体管电连接所述第二阳极层。
5.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层还包括第二区域,所述第一区域位于所述第二区域和所述空置区之间,所述发光层还包括若干第二发光部,每一所述第二发光部设置于所述第一区域的一通孔中,所述第二发光部电连接于所述第一阳极层和阴极层之间。
6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一发光部覆盖所述第二阳极层,所述第一发光部所发出的光线从所述空置区出射,所述第二发光部覆盖所述第一阳极层,所述第二发光部所发出的光线从所述阵列区出射。
7.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括封装层,所述封装层设置于所述阵列区的阴极层上和所述空置区上。
8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供一阵列基板,所述阵列基板包括一阵列区和一空置区;
在所述阵列基板的阵列区上形成第一阳极层,所述第一阳极层与所述阵列基板电连接;
在所述阵列基板的阵列区和所述第一阳极层上形成像素定义层,所述像素定义层包括若干通孔,所述通孔贯穿所述像素定义层以暴露所述第一阳极层,所述像素定义层包括第一区域,所述第一区域位于所述空置区的侧边;
在所述像素定义层的第一区域上形成第二阳极层,所述第二阳极层位于所述通孔中的所述像素定义层朝向所述空置区的表面,所述第一阳极层和所述第二阳极层相互绝缘;
在所述通孔中形成发光层,所述发光层包括若干第一发光部,每一所述第一发光部设置于一所述通孔中,所述第一发光部覆盖并电连接所述第一阳极层和第二阳极层;
在所述像素定义层和所述发光层上形成阴极层,所述阴极层与所述发光层电连接。
9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述像素定义层和所述发光层上形成阴极层,所述阴极层与所述发光层电连接的步骤之后,还包括:
在所述阵列区的阴极层上和所述空置区上形成封装层。
10.如权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述像素定义层的第一区域上形成第二阳极层,所述第二阳极层位于所述通孔中的所述像素定义层朝向所述空置区的表面,所述第一阳极层和所述第二阳极层相互绝缘的步骤之后,还包括:
在所述第二阳极层上形成绝缘层,第二阳极层包括若干第二阳极,每一所述第二阳极包括一延伸部,所述延伸部位于所述像素定义层的上表面,所述绝缘层覆盖于所述延伸部上。
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