[发明专利]图片校验方法、装置、系统和计算机可读存储介质在审
申请号: | 202010553064.X | 申请日: | 2020-06-17 |
公开(公告)号: | CN111913873A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 邵磊 | 申请(专利权)人: | 浙江数链科技有限公司 |
主分类号: | G06F11/36 | 分类号: | G06F11/36;G06T7/00;G06T7/90 |
代理公司: | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人: | 陈涵 |
地址: | 311215 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图片 校验 方法 装置 系统 计算机 可读 存储 介质 | ||
1.一种图片校验方法,其特征在于,包括:
获取待校验图片,其中,所述待校验图片具有第一标识;
根据所述第一标识,获得基准图片以及校验规则;
根据所述校验规则,生成校验掩模;
根据所述校验掩模、所述待校验图片和所述基准图片进行图片校验,生成校验结果。
2.根据权利要求1所述的图片校验方法,其特征在于,所述根据所述校验掩模、所述待校验图片和所述基准图片进行图片校验,生成校验结果包括:
根据所述待校验图片以及校验掩模,生成待校验掩模图片;
根据所述基准图片以及校验掩模,生成基准掩模图片;
根据所述待校验掩模图片和所述基准掩模图片进行图片校验,生成校验结果。
3.根据权利要求2所述的图片校验方法,其特征在于,所述根据所述待校验掩模图片和所述基准掩模图片进行图片校验,生成校验结果包括:
将所述待校验掩模图片和所述基准掩模图片进行比对,获得差异图;
将所述差异图转换为单通道图像并进行二值化处理,获得二值化图像;
识别所述二值化图像,获得差异轮廓;
根据所述差异轮廓,生成校验结果。
4.根据权利要求3所述的图片校验方法,其特征在于,所述根据所述校验规则将所述待校验掩模图片和所述基准掩模图片中的校验区域进行比对,获得差异图包括:
检测所述待校验掩模图片和所述基准掩模图片的相似度是否大于相似阈值;
若所述待校验掩模图片和所述基准掩模图片的相似度小于或等于相似阈值,则生成差异图。
5.根据权利要求3所述的图片校验方法,其特征在于,所述根据所述差异轮廓,生成校验结果包括:
根据所述差异轮廓,生成垂直矩形框;
根据所述垂直矩形框将所述待校验图片对应的区域进行标记,生成校验结果。
6.根据权利要求1所述的图片校验方法,其特征在于,所述根据所述第一标识,获得基准图片以及校验规则之前包括:
获得多张基准图片;
根据多张所述基准图片,生成相应基准图片的校验规则;
建立第一标识与基准图片和/或基准图片的校验映射关系。
7.根据权利要求6所述的图片校验方法,其特征在于,所述根据所述第一标识,获得基准图片以及校验规则包括:
根据所述第一标识,获得基准图片或校验规则;
根据基准图片以及校验映射关系,获得校验规则;或根据所述校验规则以及校验映射关系,获得基准图片。
8.一种图片校验装置,其特征在于,包括:
图片获取模块,用于获取待校验图片,其中,所述待校验图片具有第一标识;
标识查询模块,用于根据所述第一标识,获得基准图片以及校验规则;
掩模生成模块,用于根据所述校验规则,生成校验掩模;
校验结果模块,用于根据所述校验掩模、所述待校验图片和所述基准图片进行图片校验,生成校验结果。
9.一种计算机设备,包括存储器、处理器以及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至7中任一项所述的图片校验方法。
10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,该程序被处理器执行时实现如权利要求1至7中任一项所述的图片校验方法。
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