[发明专利]一种应用于等离子体处理装置中的高均匀性气路系统在审
| 申请号： | 202010553300.8 | 申请日： | 2020-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113808899A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 朱治友;侯永刚;张军;胡冬冬;李娜;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 马严龙 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 等离子体 处理 装置 中的 均匀 性气 系统 | ||
1.一种应用于等离子体处理装置中的高均匀性气路系统，其特征在于：包括开口朝上的内空底座，内空底座的侧壁上设有台阶，内空底座的开口覆盖设有第二匀流底板(6)，第二匀流底板(6)上分布有通向内空底座内部的第二匀流喷嘴(7)，所述第二匀流底板(6)为内凹结构，其上部覆盖设有第一匀流底板(3)，第一匀流底板(3)上分布有第一匀流喷嘴(4)，第一匀流喷嘴(4)贯穿第二匀流底板(6)通向内空底座内部，所述第一匀流底板(3)上设有顶盖(2)，顶盖(2)为内凹结构，其凹面盖合在第一匀流底板(3)上，所述顶盖(2)上设有通向顶盖(2)与第一匀流底板(3)之间空间的第一进气口(1)，所述顶盖(2)上还设有通向第一匀流底板(3)与第二匀流底板(6)之间空间的第二进气口(5)；所述内空底座的内部设有环状的陶瓷内衬(9)，所述第一匀流喷嘴(4)和第二匀流喷嘴(7)均通向陶瓷内衬(9)的环形结构内，陶瓷内衬(9)与内空底座侧壁上的台阶之间形成腔室(8)，陶瓷内衬(9)的环形一周分布有通向腔室(8)的通孔，所述内空底座的底部还设有连通腔室(8)的抽气通道(10)。
2.根据权利要求1所述的一种应用于等离子体处理装置中的高均匀性气路系统，其特征在于：所述第一匀流喷嘴(4)的数量为50～3000个，孔径为0.1mm～30mm；所述第二匀流喷嘴(7)的数量为50～4000个，孔径为0.1mm～20mm。
3.根据权利要求1或2所述的一种应用于等离子体处理装置中的高均匀性气路系统，其特征在于：所述第一匀流喷嘴(4)和第二匀流喷嘴(7)为斜向设置，其倾斜角度为10°-20°。
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