[发明专利]一种光学仪器用遮光复合膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学仪器用遮光复合膜，其特征是：包括载体基膜，分别设于所述载体基膜两相对表面的第一黑色消光层和第二黑色消光层，所述第一黑色消光层和第二黑色消光层采用聚氨酯改性环氧树脂组合物，所述聚氨酯改性环氧树脂组合物主要由以下质量份配比的原料制成：

黑色消光层中的任一层中。

2.根据权利要求1所述的光学仪器用遮光复合膜，其特征是：所述环氧树脂为双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、DCPD型环氧树脂、含奈环型环氧树脂、联苯型环氧树脂、酚醛型环氧树脂和增韧型环氧树脂中的两种以上；所述聚氨酯为聚醚型聚氨酯、聚酯型聚氨酯、聚碳酸酯型聚氨酯、端环氧基聚氨酯和聚四氢呋喃型聚氨酯中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的光学仪器用遮光复合膜，其特征是：所述固化剂为脂肪族多元胺类室温固化剂、聚酰胺固化剂、酸酐类固化剂或双氰胺类固化剂；其中所述的脂肪族多元胺类室温固化剂为二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、二亚乙基三胺改性物、三亚乙基四胺改性物和四亚乙基五胺改性物中的一种或几种；所述固化促进剂为酚类促进剂或咪唑类促进剂，所述酚类促进剂为2,4,6-三(二甲氨基甲基)苯酚或2，2-二(4-羟基苯基)丙烷，所述咪唑类促进剂为2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑或三苯基膦。

4.根据权利要求1所述的光学仪器用遮光复合膜，其特征是：所述炭黑为高色素炭黑和导电炭黑中的一种或两种，所述炭黑的粒径为10～100纳米；所述消光粉为有机消光粉或无机消光粉，其中所述无机消光粉为二氧化硅，所述二氧化硅的粒径为2～10微米；所述溶剂为丁酮、丙酮、乙酸乙酯和二甲基甲酰胺中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的光学仪器用遮光复合膜，其特征是：所述改性有机硅氧烷为聚醚改性有机硅氧烷、聚酯改性有机硅氧烷和丙烯酸酯改性有机硅氧烷中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的光学仪器用遮光复合膜，其特征是：所述荧光粉为无色荧光粉，所述无色荧光粉在波长为200～300纳米紫外光源照射下能显现亮光，离开所述紫外光源后颜色消失，所述无色荧光粉是粒径为2～10微米的无机短波荧光粉，所述无机短波荧光粉为深圳市奥博安全防伪技术有限公司生产的隐形无色紫外激发颜料或深圳市耀德圣科技有限公司生产的紫外线无色变有色光变粉。

7.根据权利要求1所述的光学仪器用遮光复合膜，其特征是：所述载体基膜为黑色聚酯膜、透明聚酯膜、黑色聚碳酸酯膜、透明聚碳酸酯膜、黑色聚酰亚胺膜、透明聚酰亚胺膜、茶色聚酰亚胺膜、黑色聚酰胺酰亚胺膜或透明聚酰胺酰亚胺膜，所述载体基膜的厚度为4～40微米。

8.权利要求1所述的光学仪器用遮光复合膜的制备方法，其特征是包括以下步骤：选取载体基膜，在载体基膜的其中一表面涂布第一黑色消光层，烘干，然后在载体基膜的另一相对表面涂布第二黑色消光层，烘干，熟化后，即获得光学仪器用遮光复合膜。

9.根据权利要求8所述的光学仪器用遮光复合膜的制备方法，其特征是：烘干时的温度为60～120℃，烘干时间为2～5min，熟化时的温度为50～65℃，熟化时间为20～60小时。

10.根据权利要求8所述的光学仪器用遮光复合膜的制备方法，其特征是：涂布第一黑色消光层和第二黑色消光层的方式为挤出涂布、微凹涂布、刮刀涂布或网辊涂布。