[发明专利]一种NiV合金靶材及其成型的方法与用途在审
申请号: | 202010555535.0 | 申请日: | 2020-06-17 |
公开(公告)号: | CN111549324A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;周敏 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C22C19/03;B21B45/00;B21B37/74;B21B37/56;B21B3/00;C22F1/10 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
地址: | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 niv 合金 及其 成型 方法 用途 | ||
1.一种NiV合金靶材成型的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)将NiV坯料预热至第一温度;
(2)将步骤(1)预热后的NiV坯料在第二温度下保温;
(3)步骤(2)保温后的NiV坯料经轧制,得到NiV合金靶材。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中所述第一温度为1000~1200℃,优选为1050~1150℃。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,步骤(2)中所述第二温度为1000~1200℃,优选为1050~1150℃;
优选地,所述保温的时间为30~90min,优选为45~75min。
4.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,步骤(3)中所述轧制为至少两道次轧制,优选至少八道次轧制;
优选地,所述轧制中每道次的变形率≤10%。
5.根据权利要求1~4任一项所述的方法,其特征在于,步骤(3)所述轧制过程中NiV坯料的温度控制在第三温度范围;
优选地,所述第三温度范围为1000~1200℃,优选为1050~1150℃。
6.根据权利要求1~5任一项所述的方法,其特征在于,步骤(3)中所述轧制中NiV坯料的温度小于第三温度范围最小值时,将所述NiV坯料加热至第三温度范围内;
优选地,所述轧制中NiV坯料的温度大于第三温度范围最大值时,将所述NiV坯料冷却至第三温度范围内。
7.根据权利要求1~6任一项所述的方法,其特征在于,所述NiV坯料中Ni的质量百分含量为92wt%~95wt%;
优选地,所述NiV坯料中V的质量百分含量为5wt%~8wt%。
8.根据权利要求1~7任一项所述的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)将NiV坯料预热至1000~1200℃;
(2)将步骤(1)预热后的NiV坯料在1000~1200℃下保温30~90min;
(3)步骤(2)保温后的NiV坯料经至少八道次轧制,所述轧制中每道次的变形率≤10%,得到NiV合金靶材,其中,所述轧制过程中NiV坯料的温度控制在1000~1200℃。
9.一种NiV合金靶材,其特征在于,所述NiV合金靶材由权利要求1~8任一项所述的NiV合金靶材成型的方法制得。
10.根据权利要求9所述的NiV合金靶材在半导体、电子信息、集成电路或显示器中的用途。
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