[发明专利]坐标定位方法、装置、设备及存储介质

权利要求书

1.一种坐标定位方法，其特征在于，包括：

获取原始印章图像，并对所述原始印章图像进行预处理，得到二值化的印章图像；

其中，所述原始印章图像中包括至少一组印章，各组印章中包括两个部分重叠的印章；

获取与所述二值化的印章图像匹配的目标印章模板；

根据所述目标印章模板，对所述二值化的印章图像进行模板匹配操作，得到原始印章图像中的各印章的中心点坐标；

所述原始印章图像中包括的至少一组印章是由印控仪根据盖章指令盖的；

所述盖章指令中包括至少一个标准盖章点的坐标；

每个标准盖章点对应原始印章图像中的一组印章；

每组印章中包括的两个印章的标准中心点坐标是根据对应的标准盖章点的坐标计算得到的；

根据所述目标印章模板，对所述二值化的印章图像进行模板匹配操作，得到原始印章图像中的各印章的中心点坐标，包括：

根据目标印章模板，计算出印章直径；

使用目标印章模板对所述二值化的印章图像进行模板匹配，确定与目标印章模板重合的至少一个目标图像区域；

根据当前目标图像区域中的两两像素之间的距离与印章直径之间的关系，确定当前目标图像区域内的目标印章包括的边界像素；

根据所述目标印章包括的边界像素，确定原始印章图像中的目标印章的中心点坐标。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述原始印章图像进行预处理，得到二值化的印章图像，包括：

对所述原始印章图像进行灰度化处理和二值化处理，得到印章为黑色的二值化的印章图像。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，获取与所述二值化的印章图像匹配的目标印章模板，包括：

分别遍历两个模板集合，并计算所述二值化的印章图像与各模板之间的相似度；

从各模板集合中，分别选取一个相似度最大的模板作为与所述二值化的印章图像匹配的目标印章模板。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述目标印章包括的边界像素，确定原始印章图像中的目标印章的中心点坐标，包括：

根据所述目标印章包括的边界像素，确定所述目标印章的最小外接矩形框；

根据所述最小外接矩形框的左上顶角的坐标以及右下顶角的坐标，计算得到目标印章的中心点坐标。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在根据所述目标印章模板，对所述二值化的印章图像进行模板匹配操作，得到原始印章图像中的各印章的中心点坐标之后，还包括：

根据当前组印章中包括的两个印章的中心点坐标，计算出与当前组印章对应的实际盖章点的坐标；

将所述实际盖章点的坐标和与当前组印章对应的标准盖章点的坐标做差值运算，得到偏差值；

根据至少一个所述偏差值，对所述印控仪的控制参数进行校准。

6.一种坐标定位装置，其特征在于，包括：

预处理模块，用于获取原始印章图像，并对所述原始印章图像进行预处理，得到二值化的印章图像；

其中，所述原始印章图像中包括至少一组印章，各组印章中包括两个部分重叠的印章；

模板获取模块，用于获取与所述二值化的印章图像匹配的目标印章模板；

模板匹配模块，用于根据所述目标印章模板，对所述二值化的印章图像进行模板匹配操作，得到原始印章图像中的各印章的中心点坐标；

所述原始印章图像中包括的至少一组印章是由印控仪根据盖章指令盖的；

所述盖章指令中包括至少一个标准盖章点的坐标；

每个标准盖章点对应原始印章图像中的一组印章；

每组印章中包括的两个印章的标准中心点坐标是根据对应的标准盖章点的坐标计算得到的；

所述模板匹配模块，具体用于： 根据目标印章模板，计算出印章直径；使用目标印章模板对所述二值化的印章图像进行模板匹配，确定与目标印章模板重合的至少一个目标图像区域；根据当前目标图像区域中的两两像素之间的距离与印章直径之间的关系，确定当前目标图像区域内的目标印章包括的边界像素；根据所述目标印章包括的边界像素，确定原始印章图像中的目标印章的中心点坐标。