[发明专利]超声波处理装置以及超声波处理方法

说明书

本发明提供一种超声波处理装置以及超声波处理方法，能够有效且均匀地对被处理物进行超声波处理。超声波处理装置，用于对被处理物进行超声波处理，包含：处理槽，其装入第1液体；流路，其被配置成在所述处理槽内与所述第1液体接触，并且流过被处理物以及第2液体；以及超声波谐振器，其被设置于所述处理槽，所述流路具有间隔地与从所述超声波谐振器发出的超声波的行进方向至少相交2次，该间隔是该超声波的波长的1/2的整数倍±5％以内。

技术领域

本发明涉及一种超声波处理装置以及超声波处理方法。

背景技术

以往，超声波处理被广泛利用于为了在液体中对被处理物进行清洗或者表面处理，或者确保被处理物(例如粉体、液体)在液体介质中的分散性并使其提高。例如，在半导体装置等的清洗、精密加工、各种浆料的制造工序等中进行了，通过对被处理物照射超声波(使其作用)，来除去在被处理物的表面附着的杂质，或者确保包含被处理物的液状混合物的分散性并使其提高。

超声波处理是通过利用液体将被处理物的周围填满来照射超声波而进行的，其原理大体上按如下那样来理解。在照射几十kHz的比较小的频率的超声波的情况下，在液体中产生压力的疏密差，由此，微气泡产生，产生的微气泡通过超声波的压力的波动而被压缩，当马上压坏时产生冲击波(气蚀现象)。这种冲击波、因局部的高温以及高压状态导致的化学反应对被处理物的表面产生作用，由此，实现了被处理物的表面的附着物的脱离、被处理物在液体中的分散。在照射几百kHz以上的比较大的频率的超声波的情况下，主要通过因超声波的振动导致的液体粒子的碰撞，来实现同样的效果。

超声波处理装置一般包含收纳用于对被处理物以及超声波进行传播的液体的处理槽、和发出超声波的超声波谐振器来构成。当希望在与处理槽内的上述液体不同的液体(为了区分，分别称为“第1液体”以及“第2液体”)中对被处理物进行处理的情况下，能够将装入了被处理物以及第2液体的处理容器在处理槽内与第1液体接触来设置。

此外，作为提高了清洗作用的超声波连续清洗装置，已知如下装置，其由将被清洗物(被处理物)和输送液体从供给部连续地输送到排出部的清洗路径即在路径中途中形成了弯折部的该清洗路径、以及在清洗路径中配置了多个的超声波发生器(包含超声波谐振器)构成(参照专利文献1)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-164821号公报

-发明要解决的课题-

然而，在专利文献1中记载的超声波连续清洗装置中，尽管通过在清洗路径设置弯折部并将超声波发生器接近弯折部来配置，使清洗效率提高，但是，由于使用多个超声波发生器(包含超声波谐振器)，因此，存在消耗大量的能量、效率低下这样的问题。此外，在专利文献1中记载的超声波连续清洗装置中，以获得高的清洗效果为目的，并未设想对被处理物均匀地进行超声波处理。在专利文献1中记载的超声波连续清洗装置中，由于从在清洗路径中配置了多个的超声波发生器(包含超声波谐振器)发出超声波，因此被处理物在弯折部以外的部位也受到超声波的作用，根据被处理物的经过路径的不同，在因超声波而导致气蚀、声压的状态不同的条件下来被处理，存在处理后的状态变得不均匀这样的问题。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种能够有效并且均匀地对被处理物进行超声波处理的超声波处理装置以及超声波处理方法。

-用于解决课题的手段-

根据本发明，提供下述的超声波处理装置以及超声波处理方法。

[1]一种超声波处理装置，用于对被处理物进行超声波处理，

所述超声波处理装置包含：

处理槽，其装入第1液体；