[发明专利]由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法在审
| 申请号： | 202010557266.1 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN111777583A | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 傅志伟;贺宝元;邵严亮;毛国平;余文清;薛富奎;刘司飞 | 申请（专利权）人： | 徐州博康信息化学品有限公司 |
| 主分类号： | C07D309/10 | 分类号： | C07D309/10;G03F7/027;G03F7/004 |
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| 地址： | 221327 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 合成 降解 光刻 树脂 单体 及其 方法 | ||
1.由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体结构式如下：
其中R1为氢或者甲基，R2为饱和烷烃或者环烷烃。
2.根据权利要求1所述的由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的具体结构包括：
3.由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述合成方法的反应路线如下：
合成步骤：
第一步格氏反应，在惰性气体保护下，2H-吡喃-3,5(4H,6H)-二酮(Ⅰ)与烷基格氏试剂或者环烷基格氏试剂反应，反应结束后加水淬灭，后处理纯化得到中间体(Ⅱ)；
第二步酯化反应，在碱性条件下，中间体(Ⅱ)与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯反应，后处理纯化后得到树脂单体(Ⅲ)。
4.根据权利要求3所述的由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述格氏反应的温度为0-30摄氏度。
5.根据权利要求3所述的由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述格氏反应的溶剂为无水四氢呋喃。
6.根据权利要求3所述的由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述酯化反应的反应温度0-70摄氏度。
7.根据权利要求3所述的由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述酯化反应的溶剂选自四氢呋喃、甲苯或者氯仿。
8.根据权利要求3所述的由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，为保证酯化反应的碱性条件，需要向体系中添加三乙胺或者吡啶。
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