[发明专利]狭缝镀膜装置

权利要求书

1.一种狭缝镀膜装置，其特征在于，所述装置包括：

法兰，所述法兰的个数为两个，两个法兰平行放置，用于固定待镀膜的真空管；

阴极丝，所述阴极丝固定在所述真空管的中心位置；

阴极丝固定结构，所述阴极丝固定结构设置在所述阴极丝上，用于固定所述阴极丝；其中，所述阴极丝上每间隔预设距离设置一个所述阴极丝固定结构。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

夹紧件，所述夹紧件的个数为两个，分别固定在两个法兰的外侧壁，用于拉紧且固定所述阴极丝。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述夹紧件为内部中空的圆柱体，并且在所述夹紧件的中心位置处设置有两个螺钉孔以固定所述阴极丝。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

设置在所述阴极丝一端的重物，用于将所述阴极丝拉直。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述重物的重量处于0.5kg至1kg之间。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述预设距离为80mm至120mm的距离区间。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，采用直流磁控溅射方法对所述真空管内壁进行镀膜，其中，沉积温度为80～100℃，流量计的流量为0.5～2sccm，溅射功率为10～25W，气体压强为5～15Pa，磁场强度为500～750Gauss，沉积时间为4～8h。