[发明专利]双分离状态水处理器在审
申请号: | 202010560131.0 | 申请日: | 2020-06-18 |
公开(公告)号: | CN113816461A | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 何庆熙 | 申请(专利权)人: | 何庆熙 |
主分类号: | C02F1/40 | 分类号: | C02F1/40;C02F1/24;C02F9/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 530001 广西壮族自治区南*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分离 状态 水处理 | ||
1.一种双分离状态水处理器(1),它由集油室(2)、与集油室(2)的集油室下端(8)连通并一起构成连通器(20)的集水室(3)、与集油室(2)连通的进水管(10)、与进水管(10)另一端连接的外部供水系统(50)、与集油室(2)连通的排油管(4)、与集水室(3)连通的排水管(15)所组成,所述的集油室(2)包括集油室上端(7)及混合液入口(9),所述的排水管(15)包括最低临界排水位置的排水管下端(14),并且集油室上端(7)设置位于最低临界排水位置的排水管下端(14)的下方,所述的排油管(4)包括排油管下端(6)、实际排油口(13)及理论最低临界排油位置(5),所述的排油管下端(6)连通集油室上端(7),所述的排油管(4)的内径平均水平截面面积S3小于集油室(2)的平均水平截面面积S2,其特征在于:包括低位排水阀(82)、至少一种带驱动分离机构(78)的次分离法装置(62)及控制系统(69),所述的低位排水阀(82)的开口区域H7设置在集水室(3)区域,最低排水位置(75)低于排油管下端(6),所述的次分离法装置(62)的驱动分离机构(78)安装在集油室(2)内,位置低于最低排水位置(75),所述的次分离法装置(62)与低位排水阀(82)的工作状态受控制系统(69)控制。
2.根据权利要求1所述的双分离状态水处理器(1),其特征在于:所述的低位排水阀(82)的最低排水位置(75)低于混合液入口(9)。
3.根据权利要求1所述的双分离状态水处理器(1),其特征在于:所述的次分离法装置(62)是一种包括有驱动分离机构(78)的气泡发生器(43),并在分离过程中有气体产生的气浮法分离装置(60)。
4.根据权利要求3所述的双分离状态水处理器(1),其特征在于:所述的次分离法装置(62)增加包括有驱动分离机构(78)的旋转叶轮(44)机械离心分离装置(61)。
5.根据权利要求1至4任何一项所述的双分离状态水处理器(1),其特征在于:包括一个高位缓冲池(71),所述的高位缓冲池(71)设置有水位高于排水管下端(14)的高位水堰(79)及开孔位于排水管下端(14)至高位水堰(79)H8间的连通高位缓冲池(71)到进水管(10)的细流装置(72)。
6.根据权利要求5所述的双分离状态水处理器(1),其特征在于:包括一个排尽油装置(66),排尽油装置(66)设置在排油管(4)上,是一个可开、可闭的临时降低排油口到排尽油堰(37)高度的机构,排尽油堰(37)低于实际排油口(13)、高于排尽油平衡时下降的液面高度H9。
7.根据权利要求5所述的双分离状态水处理器(1),其特征在于:包括至少一个除垢装置(40),除垢装置(40)包括贴近集油室内壁(44)的刮垢板(45)、驱动刮垢板(45)的传动装置(46)。
8.根据权利要求5所述的双分离状态水处理器(1),其特征在于:包括加热装置(41),所述的加热装置(41)包括电热膜(38)及控制电热膜(38)加电的控制电路(49),电热膜(38)贴近集油室壳体(42)外侧安装。
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