[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202010566417.X 申请日: 2020-06-19
公开(公告)号: CN111653585A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 钟莉;查国伟 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;G02F1/1335;G02F1/1343
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,包括第一显示区,其特征在于,所述显示面板包括:

多个第一像素单元,多个所述第一像素单元位于所述第一显示区内,每个所述第一像素单元包括透光区和与所述透光区相邻设置的发光器件;

第一基板,所述第一基板包括位于所述第一显示区内的第一部分,所述第一部分包括第一驱动电路以及位于所述第一驱动电路之上的电连接线;

其中,所述发光器件安装于所述第一部分,所述发光器件包括背离所述第一驱动电路的电极,所述电极通过所述电连接线与所述第一驱动电路电性连接。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光器件为自发光显示器件。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述发光器件包括次毫米发光二极管或微型发光二极管中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光器件还包括安装于所述第一基板的主体,所述电极自所述主体延伸而出,所述电连接线沿所述主体的表面延伸。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述电极包括自所述主体延伸而出的第一电极和第二电极;所述电连接线包括第一线和第二线,所述第一线电性连接所述第一电极和所述第一驱动电路,所述第一线沿所述主体的表面延伸;所述第二线电性连接所述第二电极和所述第一驱动电路,所述第二线沿所述主体的表面延伸。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述电连接线的制备材料包括Ti、Al、Mo、ITO中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述电连接线的截面尺寸为大于或等于100纳米且小于或等于1000纳米。

8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括与所述第一显示区相邻设置的第二显示区,所述显示面板还包括位于所述第二显示区内的多个第二像素单元,多个所述第二像素单元的发光方式与多个所述第一像素单元的发光方式不同。

9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,每一所述第二像素单元为液晶显示像素单元。

10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述第一基板还包括位于所述第二显示区内的第二部分;所述第二部分包括第二驱动电路,所述第二驱动电路用于驱动多个所述第二像素单元。

11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,所述电连接线的材料与所述第二驱动电路中的导电层同层设置且材料相同。

12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,所述导电层包括像素电极,所述电连接线与所述像素电极同层设置且材料相同。

13.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括与所述第一基板相对设置的第二基板,所述第二基板的对应所述第二部分的部分包括彩膜单元。

14.根据权利要求13所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:

第一偏光片,位于所述第一基板远离所述第二基板的一侧,所述第一偏光片的对应所述第一部分的部分设置有过孔;

第二偏光片,位于所述第二基板远离所述第一基板的一侧。

15.根据权利要求14所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:

背光模组,位于所述第一偏光片远离所述第一基板的一侧,所述背光模组的对应所述第一部分的部分设置有过孔。

16.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在俯视视角下,所述发光器件的面积小于或等于所述透光区的面积。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010566417.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top