[发明专利]一种灌注泵流量控制方法及设备

说明书

本发明公开一种灌注泵流量控制方法，包括以下步骤：S1、获取目标灌注流量；S2、根据目标灌注流量调整灌注流量周期和灌注流量区间；S3、根据灌注流量周期和灌注流量区间调节灌注流量输出值；S4、启动灌注泵，通过水通道输出灌注物质。本发明还公开一种灌注泵流量控制设备，分别对应以上的控制方法，本发明采用在一个流量区间均匀变化的循环流量控制方式，可以保证灌注泵水冲流量的充足以及连续供应，解决了传统技术中因灌注流量偏小或断流而造成镜下视野不清晰的问题。

技术领域

本发明涉及医疗器械技术领域，尤其涉及一种灌注泵流量控制方法及设备。

背景技术

医用灌注泵主要应用于各种微创手术，在实施手术过程中，灌注泵通过手术过程中建立的手术通道向实施手术部位以适当压力给予一定流量的冲洗水流，避免手术过程中产生局部高温，同时通过手术通道带走手术过程中产生的附加物，如被切除的组织、冲洗出血等。通常在手术开始时即下内窥镜时灌注泵被打开，水流冲洗手术部位直至整个手术结束。目前灌注泵控制流量主要通过压力控制，即为了保证末端压力不超过设置的压力限制，往往采取主动降低流量以保证末端压力的稳定。但由于内窥镜的水通道通常比较小，会出现手术过程中产生的附加物堵塞内窥镜通道，从而造成水冲洗流量偏小或断流，致使镜下视野不清晰。

发明内容

针对上述问题，本发明提出一种灌注泵流量控制方法及设备，主要解决背景技术中的问题。

本发明一方面提出一种灌注泵流量控制方法，包括以下步骤：

S1、获取目标灌注流量；

S2、根据目标灌注流量调整灌注流量周期和灌注流量区间；

S3、根据灌注流量周期和灌注流量区间调节灌注流量输出值；

S4、启动灌注泵，通过水通道输出灌注物质。

进一步改进在于，获取目标灌注流量为V_S，预设流量差值为V，所述灌注流量区间为[V_S-V，V_S+V]，所述灌注流量周期为T。

进一步改进在于，所述灌注泵输出灌注物质流量以灌注流量区间T为一个周期，循环往复的从灌注流量区间的下限值到上限值通过水通道输出灌注物质。

进一步改进在于，所述方法还包括：

S5、预设极限压力值P_S，当监测到所述水通道进水口压力值超过极限压力值P_S时，所述灌注泵停止工作。

进一步改进在于，还包括，当监测到所述水通道进水口压力值降低到极限压力值P_S以下时，所述灌注泵重新开始工作。

进一步改进在于，所述水通道进水口的压力值为平均压力值。

本发明另一方面提出一种灌注泵流量控制设备，包括灌注模块、驱动模块、监测模块和控制模块，所述灌注模块包括水通道，用于输出灌注物质，所述驱动模块用于向所述灌注模块提供动力，所述监测模块包括压力传感器，所述压力传感器将所述水通道进水口的压力值传递到所述控制模块，所述控制模块进而控制所述驱动模块运作。

进一步改进在于，所述控制模块包括控制器，所述控制器为STM32控制器。

进一步改进在于，所述检测模块还包括流量传感器，所述流量传感器和所述压力传感器均设置在所述水通道的进水口处，所述流量传感器用于监测所述水通道进水口处的灌注流量值，并将所述灌注流量值传递到所述控制模块。

进一步改进在于，所述水通道上还设置有气泡检测电路，用于检测所述水通道上是否有气泡。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：