[发明专利]一种含还原剂的碳化硅抛光液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010570947.1 | 申请日： | 2020-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN111574927A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 孙韬;陈腾飞;张泽芳 | 申请（专利权）人： | 宁波日晟新材料有限公司;上海工程技术大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 宁波知坤专利代理事务所(特殊普通合伙) 33312 | 代理人： | 李小伟 |
| 地址： | 315410 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 还原剂 碳化硅 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述碳化硅抛光液由研磨剂颗粒、还原剂、硝酸和去离子水组成，且所述碳化硅抛光液pH值为1～7。
2.如权利要求1所述的含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述研磨剂颗粒为氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化铈、氧化锰、氧化镁、碳化硅、碳化硼、钻石中的一种或多种物质。
3.如权利要求1所述的含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述研磨剂颗粒在碳化硅抛光液中的质量浓度为0.1～40％wt。
4.如权利要求1所述的含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述还原剂为抗坏血酸，异抗坏血酸，三(2-羰基乙基)磷酸盐，二氧化氯中的至少一种。
5.如权利要求1所述的含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述还原剂在碳化硅抛光液中的摩尔浓度为0.01M～3M。
6.如权利要求1所述的含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述还原剂在碳化硅抛光液中的摩尔浓度为0.1M～2M。
7.如权利要求1所述的含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述还原剂在碳化硅抛光液中的摩尔浓度为0.5M～1M。
8.如权利要求1所述的含还原剂的碳化硅抛光液，其特征在于，所述碳化硅抛光液pH值为3～5。
9.一种如权利要求1-8任一项所述的含还原剂的碳化硅抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法的步骤为：称取固定含量的研磨剂颗粒和还原剂，均匀分散在去离子水中，搅拌均匀，采用硝酸调节pH值为1～7，得到所述碳化硅抛光液。
10.一种如权利要求1-8任一项所述的含还原剂的碳化硅抛光液的应用，其特征在于，所述碳化硅抛光液用于含硅以及含硅化合物晶圆的表面抛光。
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