[发明专利]蒸镀用掩膜版

说明书

本发明提供了蒸镀用掩膜版。蒸镀用掩膜版包括多个预定区域，预定区域包括开口和遮挡区，遮挡区包括第一区、第二区和第三区，第一区具有第一表面和第二表面，第二区具有第三表面和第四表面，第三区具有第五表面和第六表面，第一表面、第三表面和第五表面位于掩膜版的同一侧，第二表面、第四表面和第六表面位于掩膜版的同一侧，第二区的厚度大于第一区的厚度和第三区的厚度，第一表面与第三表面齐平，第六表面所在的平面位于第三表面所在的平面和第四表面所在的平面之间。由此，减轻了掩膜版的整体重量，从而可以减轻掩膜版在蒸镀过程中的下垂量，进而提高掩膜版的位置精度，减小阴影，提高蒸镀品质，更有利于实现显示屏的窄边框的设计。

技术领域

本发明涉及掩膜版技术领域，具体的，涉及蒸镀用掩膜版。

背景技术

蒸镀HTL(空穴传输层)、ETL(电子传输层)、Cathode(阴极)等公共功能层的金属掩膜版称为通用金属掩膜版(Common Metal Mask)，各功能层通过通用金属掩膜版依次蒸镀沉积到基板上。通用金属掩膜版因自重影响有一定下垂量，常用手机类等大显示屏用的金属掩膜版下垂量较小，穿戴类(比如手表、手环等小显示屏)小显示屏用的掩膜版的下垂量较大，图3所示为现有通用金属掩膜版的下垂量趋势。一般而言，7英寸的手机类用的通用金属掩膜版的cell开口域面积约占整张掩膜版面积78％，而1.3英寸的穿戴类显示屏用的掩膜版开口面积只占整张掩膜版面积的50％，所以，同样厚度的掩膜版原材情况下，穿戴类显示屏用的通用金属掩膜版的下垂量会更大。下垂量过大会影响掩膜版的位置精度，增加Shadow(阴影，是指蒸镀材料通过蒸镀掩膜版蒸镀时，在cell开口边缘产生的膜厚不均匀区域(膜层厚度为膜层正常厚度的5％～95％))，降低蒸镀的质量。

因此，关于蒸镀用掩膜版的研究有待深入。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种蒸镀用掩膜版，该掩膜版在蒸镀时的下垂量较小，提升掩膜版的位置精度，或可以有效减小阴影。

在本发明的一个方面，本发明提供了一种蒸镀用掩膜版。根据本发明的实施例，该蒸镀用掩膜版包括多个预定区域，每个所述预定区域包括开口和围绕所述开口的遮挡区，在远离所述开口的方向上，所述遮挡区包括第一区、第二区和第三区，所述第二区在水平方向上分别连接所述第一区和所述第三区，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一区具有相对设置的第一表面和第二表面，所述第二区具有相对设置的第三表面和第四表面，所述第三区具有相对设置的第五表面和第六表面，所述第一表面、所述第三表面和所述第五表面位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时远离基板设置，所述第二表面、所述第四表面和所述第六表面位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时靠近基板设置，其中，所述第二区的厚度大于所述第一区的厚度，且大于所述第三区的厚度，所述第一表面与所述第三表面齐平，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第六表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。由此，相对于第二区的厚度，减薄了第三区的厚度，进而减轻了掩膜版的整体重量，从而可以减轻掩膜版在蒸镀过程中的下垂量，进而提高掩膜版的位置精度，减小阴影，提高蒸镀品质，更有利于实现显示屏的窄边框的设计。

根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第五表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。

根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。

根据本发明的实施例，所述第四表面和所述第六表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/5～1/3。

根据本发明的实施例，所述第三表面和所述第五表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/10～1/4。

根据本发明的实施例，所述第三表面和所述第一表面之间的垂直间距为所述第二区厚度的1/10～1/4。