[发明专利]一种显示面板及其制备方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 202010575778.0 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN111682120B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 刘月 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H10K50/844 分类号: H10K50/844;H10K50/82;H10K50/858;H10K59/12;H10K59/35;H10K59/30;H10K71/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;冯建基
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

在基板上制备多个像素单元;所述像素单元排布呈阵列,相邻两列所述像素单元相互间隔形成间隔区域;

制备所述像素单元包括制备像素限定层和子像素,所述子像素形成于所述像素限定层限定的像素区域内;一列所述像素单元中所述子像素的阴极形成为一体;

所述显示面板的制备方法在形成所述像素限定层之后且在形成所述阴极之前还包括形成透明抑制层,所述透明抑制层形成于所述间隔区域内,且所述透明抑制层在所述基板上的正投影完全覆盖所述间隔区域;

形成所述透明抑制层包括:采用具有部分所述透明抑制层图形的掩膜板蒸镀形成一部分所述透明抑制层的图形;

移动所述具有部分所述透明抑制层图形的掩膜板,蒸镀形成另一部分所述透明抑制层的图形;

或者,形成所述透明抑制层包括:将具有一部分所述透明抑制层图形的第一掩膜板和具有另一部分所述透明抑制层图形的第二掩膜板进行拼接,使一部分所述透明抑制层图形和另一部分所述透明抑制层图形拼接形成完整的所述透明抑制层的图形;

蒸镀形成所述透明抑制层的图形。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一掩膜板和所述第二掩膜板上的所述透明抑制层的图形相同,所述第一掩膜板上的一部分所述透明抑制层的图形和所述第二掩膜板上的另一部分所述透明抑制层的图形局部重叠。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,形成所述阴极包括:采用具有第一图形的掩膜板蒸镀形成所述阴极的图形;

其中,所述第一图形为所述基板上所述像素单元所在区域以及所述间隔区域的整体图形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010575778.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top