[发明专利]一种压印模板的制作方法及压印模板

权利要求书

1.一种压印模板的制作方法，包括：

提供包括原始图案的母模板，利用所述母模板形成包括第一转移图案和边缘图案的第一软模板，所述第一转移图案为所述原始图案的互补图案，所述边缘图案为所述母模板边缘的互补图案；

提供包括第一压印胶层的转换模板，利用所述第一软模板对所述转换模板进行压印，以在所述转换模板的第一压印胶层形成第二转移图案，所述第二转移图案包括所述原始图案的部分或全部，在平行于所述转换模板的平面上，所述边缘图案的正投影位于所述第一压印胶层的正投影外；

利用形成有所述第二转移图案的转换模板形成包括所述第三转移图案的第二软模板，所述第三转移图案为所述第二转移图案的互补图案；

利用所述第二软模板对包括第二压印胶层的待压印基板进行压印，以在所述待压印基板上形成压印图案，所述压印图案为所述第三转移图案的互补图案。

2.根据权利要求1所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述提供包括第一压印胶层的转换模板包括：

提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板；

在所述亲疏水模板的亲水区域形成所述第一压印胶层，在平行于所述亲疏水模板的平面上，所述第一压印胶层的正投影位于所述疏水区域的正投影外。

3.根据权利要求2所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板包括：

在基底上贴附完全覆盖所述基底的牺牲层薄膜；

图案化所述牺牲层薄膜，生成牺牲层图案，在平行于所述基底的平面上，所述牺牲层的正投影与所述亲水区域的正投影重合；

在所述牺牲层远离所述基底一侧和所述基底靠近所述牺牲层一侧涂覆疏水层薄膜；

剥离所述亲水区域的牺牲层和所述牺牲层上的疏水层薄膜。

4.根据权利要求2所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板包括：

在基底上涂覆疏水层薄膜；

通过光刻工艺对所述疏水层薄膜进行图案化，生成疏水层图案，在平行于所述基底的平面上，所述疏水层的正投影与所述疏水区域的正投影重合。

5.根据权利要求3或4所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述疏水层的材料包括以下至少之一：聚四氟乙烯、氟乙烯丙烯共聚物、过氟烷基化物和乙烯-四氟乙烯共聚物。

6.根据权利要求3或4所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述涂覆疏水层薄膜包括：使用旋涂、浸涂或者蒸镀涂覆疏水层薄膜。

7.根据权利要求1至4任一所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述提供包括原始图案的母模板包括：提供多个所述母模板；

所述第一软模板包括多个所述第一转移图案和多个所述边缘图案；

所述提供包括第一压印胶层的转换模板包括：提供包括多个第一压印胶层的转换模板，所述第一压印胶层与所述第一转移图案和所述边缘图案一一对应，在平行于所述转换模板的平面上，所述边缘图案的正投影位于所述边缘图案对应的第一压印胶层的正投影外。

8.根据权利要求1至4任一所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述母模板包括晶圆。

9.根据权利要求1至4任一所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述第一压印胶层和所述第二压印胶层的材料包括热固化型纳米压印胶或者紫外固化型纳米压印胶。

10.一种压印模板，其特征在于，所述压印模板使用如权利要求1至9任一所述的压印模板的制作方法的制作。