[发明专利]一种多彩的BIPV薄膜太阳能电池的制备方法在审
申请号: | 202010577057.3 | 申请日: | 2020-06-23 |
公开(公告)号: | CN111676459A | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 马立云;姚婷婷;甘治平;李刚;沈洪雪;杨扬;彭赛奥;金克武;王天齐 | 申请(专利权)人: | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/18;H01L31/0224;H01L31/0236 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 | 代理人: | 陈俊 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多彩 bipv 薄膜 太阳能电池 制备 方法 | ||
1.一种多彩的BIPV薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、取超白浮法玻璃作为玻璃基底,去除玻璃基底表面污物,并对玻璃基底表面进行活化;
S2、采掠射角磁控溅射工艺,在玻璃基底顶面沉积透明导电层,透明导电层作为
彩色功能层;彩色功能层由三层以上的薄膜构成复合膜层;
彩色功能层包含BZO薄膜、AZO薄膜、GZO薄膜、IGZO薄膜、IZO薄膜的其中一种或两种以上;
或者彩色功能层包含CTO、ZTO、ITO薄膜的其中一种或两种以上;
彩色功能层中奇数膜层的折射率大于偶数膜层的折射率;
S3、采用磁控溅射工艺在彩色功能层顶面沉积缓冲层,缓冲层为CdS、ZnS或InS薄膜;
S4、采用磁控溅射工艺在缓冲层顶面沉积吸收层,吸收层为CdTe薄膜;
S5、采用磁控溅射工艺在吸收层顶面沉积背接触层,背接触层为Cu、Zn、Mo、Ti、Al、Ag或Au薄膜;
S6、采用磁控溅射工艺在背接触层顶面沉积保护层,保护层为Au、Zn、Pt、Zr或Ti薄膜;得到多彩的BIPV薄膜太阳能电池。
2.根据权利要求1所述的一种多彩的BIPV薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤S1超白浮法玻璃的底面呈凹凸的绒面结构。
3.根据权利要求1或2所述的一种多彩的BIPV薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤S2当彩色功能层采用BZO薄膜、AZO薄膜、GZO薄膜、IGZO薄膜、IZO薄膜时,彩色功能层的总厚度为800~1300nm;
当彩色功能层采用CTO、ZTO、ITO薄膜时,彩色功能层的总厚度为650~750nm。
4.根据权利要求3所述的一种多彩的BIPV薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤S2所述掠射角磁控溅射工艺采用入射粒子流倾斜角度10°~80°,制备出纳米柱倾斜角为5°~55°。
5.根据权利要求1所述的一种多彩的BIPV薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述缓冲层的厚度为20~130nm、吸收层的厚度为1300~2800nm、背接触层的厚度为3~40nm、保护层的厚度为5~50nm。
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