[发明专利]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 202010580958.8 申请日: 2020-06-23
公开(公告)号: CN112563276B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 内海哲章 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H10B41/10 分类号: H10B41/10;H10B41/35;H10B41/41;H10B41/27;H10B43/10;H10B43/27;H10B43/35;H10B43/40
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体存储装置,具备:

半导体基板;

存储器单元阵列,在与所述半导体基板的表面交叉的第1方向上与所述半导体基板相隔配置;以及

第1晶体管阵列及第2晶体管阵列,设置在所述半导体基板上;且

所述半导体基板具备:第1区域~第4区域,在与所述第1方向交叉的第2方向上依序排列;及第5区域~第8区域,在所述第2方向上依序排列;

在与所述第1方向及所述第2方向交叉的第3方向上,

所述第5区域与所述第1区域相邻,

所述第6区域与所述第2区域相邻,

所述第7区域与所述第3区域相邻,

所述第8区域与所述第4区域相邻,

所述存储器单元阵列具备:

多个第1导电层,在所述第1区域~所述第4区域中在所述第2方向上延伸,且在所述第1方向上积层;

多个第1半导体柱,设置在所述第1区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第1导电层对向;

多个第1连接接点,设置在所述第2区域,在所述第1方向上延伸,且在所述第1方向的一端与所述多个第1导电层分别连接;

多个第2半导体柱,设置在所述第4区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第1导电层对向;

多个第2导电层,在所述第5区域~所述第8区域中在所述第2方向上延伸,且在所述第1方向上积层;

多个第3半导体柱,设置在所述第5区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第2导电层对向;

多个第2连接接点,设置在所述第7区域,在所述第1方向上延伸,且在所述第1方向的一端与所述多个第2导电层分别连接;及

多个第4半导体柱,设置在所述第8区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第2导电层对向;且

所述第1晶体管阵列

设置在包含所述第2区域及所述第6区域的区域,且

具备:多个第1晶体管,在所述第2方向上排列;及多个第2晶体管,在所述第2方向上排列;

所述多个第2晶体管隔着设置在所述半导体基板的表面的绝缘区域与所述多个第1晶体管在所述第3方向上相邻,

所述多个第1晶体管及所述多个第2晶体管经由所述多个第1连接接点与所述多个第1导电层连接,

所述第2晶体管阵列

设置在包含所述第3区域及所述第7区域的区域,且

具备:多个第3晶体管,在所述第2方向上排列;及多个第4晶体管,在所述第2方向上排列;

所述多个第3晶体管隔着所述绝缘区域与所述多个第4晶体管在所述第3方向上相邻,

所述多个第3晶体管及所述多个第4晶体管经由所述多个第2连接接点与所述多个第2导电层连接。

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

所述多个第1晶体管设置在所述第2区域,

所述多个第2晶体管设置在所述第6区域,

所述多个第3晶体管设置在所述第3区域,

所述多个第4晶体管设置在所述第7区域。

3.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其具备:

多个第1贯通接点,设置在所述第3区域,在所述第1方向上至少从所述多个第1导电层的最上层延伸至最下层;及

多个第2贯通接点,设置在所述第6区域,在所述第1方向上至少从所述多个第2导电层的最上层延伸至最下层;且

所述多个第1晶体管及所述多个第2晶体管经由所述多个第2贯通接点及所述多个第1连接接点与所述多个第1导电层连接,所述多个第3晶体管及所述多个第4晶体管经由所述多个第1贯通接点及所述多个第2连接接点与所述多个第2导电层连接。

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