[发明专利]半导体存储装置有效
申请号: | 202010580958.8 | 申请日: | 2020-06-23 |
公开(公告)号: | CN112563276B | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 内海哲章 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | H10B41/10 | 分类号: | H10B41/10;H10B41/35;H10B41/41;H10B41/27;H10B43/10;H10B43/27;H10B43/35;H10B43/40 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 | ||
1.一种半导体存储装置,具备:
半导体基板;
存储器单元阵列,在与所述半导体基板的表面交叉的第1方向上与所述半导体基板相隔配置;以及
第1晶体管阵列及第2晶体管阵列,设置在所述半导体基板上;且
所述半导体基板具备:第1区域~第4区域,在与所述第1方向交叉的第2方向上依序排列;及第5区域~第8区域,在所述第2方向上依序排列;
在与所述第1方向及所述第2方向交叉的第3方向上,
所述第5区域与所述第1区域相邻,
所述第6区域与所述第2区域相邻,
所述第7区域与所述第3区域相邻,
所述第8区域与所述第4区域相邻,
所述存储器单元阵列具备:
多个第1导电层,在所述第1区域~所述第4区域中在所述第2方向上延伸,且在所述第1方向上积层;
多个第1半导体柱,设置在所述第1区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第1导电层对向;
多个第1连接接点,设置在所述第2区域,在所述第1方向上延伸,且在所述第1方向的一端与所述多个第1导电层分别连接;
多个第2半导体柱,设置在所述第4区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第1导电层对向;
多个第2导电层,在所述第5区域~所述第8区域中在所述第2方向上延伸,且在所述第1方向上积层;
多个第3半导体柱,设置在所述第5区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第2导电层对向;
多个第2连接接点,设置在所述第7区域,在所述第1方向上延伸,且在所述第1方向的一端与所述多个第2导电层分别连接;及
多个第4半导体柱,设置在所述第8区域,在所述第1方向上延伸,且与所述多个第2导电层对向;且
所述第1晶体管阵列
设置在包含所述第2区域及所述第6区域的区域,且
具备:多个第1晶体管,在所述第2方向上排列;及多个第2晶体管,在所述第2方向上排列;
所述多个第2晶体管隔着设置在所述半导体基板的表面的绝缘区域与所述多个第1晶体管在所述第3方向上相邻,
所述多个第1晶体管及所述多个第2晶体管经由所述多个第1连接接点与所述多个第1导电层连接,
所述第2晶体管阵列
设置在包含所述第3区域及所述第7区域的区域,且
具备:多个第3晶体管,在所述第2方向上排列;及多个第4晶体管,在所述第2方向上排列;
所述多个第3晶体管隔着所述绝缘区域与所述多个第4晶体管在所述第3方向上相邻,
所述多个第3晶体管及所述多个第4晶体管经由所述多个第2连接接点与所述多个第2导电层连接。
2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中
所述多个第1晶体管设置在所述第2区域,
所述多个第2晶体管设置在所述第6区域,
所述多个第3晶体管设置在所述第3区域,
所述多个第4晶体管设置在所述第7区域。
3.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其具备:
多个第1贯通接点,设置在所述第3区域,在所述第1方向上至少从所述多个第1导电层的最上层延伸至最下层;及
多个第2贯通接点,设置在所述第6区域,在所述第1方向上至少从所述多个第2导电层的最上层延伸至最下层;且
所述多个第1晶体管及所述多个第2晶体管经由所述多个第2贯通接点及所述多个第1连接接点与所述多个第1导电层连接,所述多个第3晶体管及所述多个第4晶体管经由所述多个第1贯通接点及所述多个第2连接接点与所述多个第2导电层连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司,未经铠侠股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010580958.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:使用脉动阵列和融合操作的深度学习实现方式
- 下一篇:声阻支撑膜组件