[发明专利]均匀分配气体的装置在审
| 申请号： | 202010586834.0 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN113838735A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 周仁;荒见淳一;侯彬;安超;柴智 | 申请（专利权）人： | 拓荆科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 李丹 |
| 地址： | 110179 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 均匀 分配 气体 装置 | ||
1.一种均匀分配气体的装置，其特征在于：安装于一等离子体源产生装置与一喷淋组件之间，包含：
一本体，该本体设有一气体通道及复数个通孔，该气体通道设于该本体的中央位置处，而该复数个通孔环设于该气体通道的周围，且该复数个通孔呈一角度斜置于该本体内，该复数个通孔具有一入口及一出口，该入口的孔径大于该出口的孔径。
2.如权利要求1所述之均匀分配气体的装置，其特征在于：其中该入口的孔径D2直径大于该出口的孔径D1直径的两倍。
3.如权利要求1所述之均匀分配气体的装置，其特征在于：其中该复数个通孔系平行于该复数个通孔之出口的轴线与该复数个通孔之中心轴线间呈一角度斜置于该本体内。
4.如权利要求1所述之均匀分配气体的装置，其特征在于：其中该复数个通孔之结构呈现一针孔状型体。
5.如权利要求1所述之均匀分配气体的装置，其特征在于：其中该复数个通孔斜置于本体内之角度以及该复数个通孔的入口孔径大于该出口孔径之设计，在该本体内的排列形成一螺旋排列。
6.如权利要求1所述之均匀分配气体的装置，其特征在于：其中该复数个通孔的孔径设计成由该入口逐渐缩小至该出口的孔径，形成一锥体形状。
7.如权利要求1所述之均匀分配气体的装置，其特征在于：其中该复数个通孔的孔径设计成由该入口逐渐缩小至该出口的孔径，形成一阶梯状。
8.如权利要求1所述之均匀分配气体的装置，其特征在于：其中依据一总反应气体流量Q≦40slm的条件下，该出口之孔径D1的大小范围介于0.3mm≦D1≦2mm，而该复数个通孔斜置于本体内之角度α的角度范围介于15°≦α≦80°。
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