[发明专利]一种改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺

权利要求书

1.一种改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺，其特征在于：采用旋涂方法在晶圆表面形成均匀的光刻胶层，具体包括如下步骤：

(1)将晶圆送入涂胶单元，在晶圆静止状态下喷涂光阻稀释剂RRC，以增加光刻胶流动性；

(2)将光刻胶喷嘴移到晶圆中心正上方，并使晶圆旋转，在晶圆表面形成一层RRC膜；

(3)使光刻胶喷嘴喷涂光刻胶，喷涂光刻胶后，先使晶圆在转速V1时高速旋转T1时间，使晶圆上光刻胶铺展，该步骤决定了胶膜的厚度；然后降低晶圆转速至V2并旋转T2时间，使晶圆边缘光刻胶迅速回流；涂覆完后，晶圆边缘胶膜厚度均匀性良好；

(4)经步骤(3)涂覆后的晶圆传入热盘中进行烘烤，再经曝光、显影和冷盘冷却后，最终将晶圆传送回片盒；

步骤(1)中，所述涂胶单元包括承片台和CUP结构，晶圆放置于承片台上，所述CUP结构为三层CUP结构，与四层CUP结构相比，改变了其内部的风流，四层CUP中，从下至上第三层上沿距承片台2.5-3.0mm，其水平高度在承片台之上，而三层CUP结构中从下往上数第二层上沿，水平高度在承片台之下，距承片台2.0-2.5mm，从而加大了与顶层CUP之间的空隙，从而加大了风流。

2.根据权利要求1所述的改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺，其特征在于：步骤(1)-(3)中，所述CUP排风参数为2.0-6.0kpa。

3.根据权利要求1所述的改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺，其特征在于：步骤(2)中，喷涂光刻胶的喷嘴采用tip喷嘴，喷嘴出胶状态更好，可提高膜厚均匀性。

4.根据权利要求1所述的改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺，其特征在于：步骤(3)中，根据膜厚的要求与PI的特性，转速V1为500-4000rpm，转速V2为100-1000rpm，根据实际情况调整，转速V2需远低于V1；同时该步骤加速度应为10000-30000r/s²，T1为5-40s，T2为1-3s。

5.根据权利要求4述的改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺，其特征在于：步骤(3)中，转速V2越小，回流范围越大，根据实际要求进行设定。

6.根据权利要求1所述的改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺，其特征在于：步骤(4)中，所述热盘的盘盖上设有排风管，排风管为大孔径不锈钢方管，排风管内径为25-35mm。