[发明专利]一种用于SiC平面封装结构的散热件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010591179.8 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN113838821A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 王彦刚;谭立明;敖日格力;叶怀宇;王林根;张国旗 申请(专利权)人: 深圳第三代半导体研究院
主分类号: H01L23/473 分类号: H01L23/473;H01L23/367;H01L21/48
代理公司: 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 代理人: 彭随丽
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 sic 平面 封装 结构 散热 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于SiC平面封装结构的散热件,其特征在于,包括铜针翅、绝缘介质层和金属层,所述铜针翅包括铜板和排布在所述铜板一面上的针翅,所述绝缘介质层和金属层依次设置在所述铜板的另一面上,所述铜针翅、绝缘介质层和金属层一体成型。

2.如权利要求1所述的一种用于SiC平面封装结构的散热件,其特征在于,所述绝缘介质层上方为金属层,所述金属层包括分开预设距离设置的第一金属层和第二金属层。

3.一种用于SiC平面封装结构的散热件,其特征在于,包括权利要求1至2任一所述散热件,所述SiC平面封装结构还包括功率器件芯片、第一功率端子引线框架和第二功率端子引线框架,所述功率器件芯片设置在所述第一功率端子引线框架和所述第一金属层之间,所述第二功率端子引线框架设置在所述第二金属层上。

4.如权利要求3所述的SiC平面封装结构的散热件,其特征在于,所述功率器件芯片与所述第一功率端子引线框架之间,所述功率器件芯片与所述第一金属层之间,所述第二功率端子引线框架与所述第二金属层之间,均通过连接材料相接,所述连接材料选自:焊锡片、锡膏、纳米银材料、纳米铜材料中的一种。

5.如权利要求1所述的SiC平面封装结构的散热件,其特征在于,所述铜板厚度范围为:2mm~5mm,所述针翅高度范围为:3mm~8mm,所述相邻两个针翅之间间距范围为:1mm~3mm。

6.如权利要求1所述的SiC平面封装结构的散热件,其特征在于,所述铜板、所述绝缘介质层、所述金属层、所述功率器件芯片、所述第一功率端子引线框架和所述第二功率端子引线框架由环氧树脂密封。

7.一种制备如权利要求1-6任一所述的SiC平面封装结构的散热件的制备方法,其特征在于,包括以下制备步骤:

S1.一体化基板;

S2.搭载功率器件芯片,及安装第一功率端子引线框架、第二功率端子引线框架,烧结;

S3.通过密封材料密封器件;

所述S1包括以下步骤:

S1.1.在铜板上一面制备铜针翅结构;

S1.2.在铜板另一面通过覆铜工艺或活性金属钎焊工艺制备绝缘介质层和金属层。

8.如权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述制备铜针翅的工艺为厚铜注模工艺。

9.如权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述密封材料选自:环氧树脂、硅橡胶、聚酰亚胺中的一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳第三代半导体研究院,未经深圳第三代半导体研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010591179.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top