[发明专利]自旋轨道扭矩磁随机存储单元、存储阵列及存储器在审
申请号: | 202010594037.7 | 申请日: | 2020-06-24 |
公开(公告)号: | CN111740011A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 邢国忠;林淮;刘明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L27/22;G11C11/16 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘歌 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自旋 轨道 扭矩 随机 存储 单元 阵列 存储器 | ||
1.一种自旋轨道扭矩磁随机存储单元,包括:
选通器,为二维材料基选通器;
磁隧道结,其布置在所述选通器的上方或下方;所述磁隧道结包括反铁磁层和自由层,所述自由层与所述反铁磁层邻接;
所述选通器开启,所述存储单元导通,电流产生自旋流注入所述自由层,在所述自由层和所述反铁磁层的交换偏置效应作用下,所述自由层磁化方向翻转。
2.根据权利要求1所述的自旋轨道扭矩磁随机存储单元,其中,
所述磁隧道结还包括:隧穿层和参考层,所述参考层、所述隧穿层、所述自由层和所述反铁磁层依次层叠;所述选通器与所述反铁磁层邻接或者与所述参考层邻接;或者,
所述磁隧道结还包括:铁磁层、隧穿层和参考层,所述参考层、所述隧穿层、所述自由层、所述反铁磁层和所述铁磁层依次层叠;所述选通器与所述铁磁层邻接或者与所述参考层邻接。
3.根据权利要求1所述的自旋轨道扭矩磁随机存储单元,其中,所述自旋轨道扭矩磁随机存储单元还包括:
字线和位线,所述选通器和所述磁隧道结设置在所述字线和所述位线间。
4.根据权利要求1所述的自旋轨道扭矩磁随机存储单元,其中,所述选通器包括:
叠层单元,所述叠层单元为金属-二维半导体-金属结构,所述金属-二维半导体-金属结构包括:二维半导体层,以及分别设置于所述二维半导体层上、下表面的金属层;
其中,在所述二维材料选通器通电导通时,所述叠层单元包括两个反向并联的肖特基二极管结构;或者
所述选通器包括:
M个叠层单元,M≥2,每个叠层单元为金属-二维半导体-金属结构,所述金属-二维半导体-金属结构包括:二维半导体层,以及分别设置于所述二维半导体层上、下表面的金属层;
其中,每个叠层单元中,其中一个金属-二维半导体界面形成欧姆接触,另一个金属-二维半导体界面形成肖特基接触;
所述M个叠层单元沿着第一方向排布,所述第一方向平行于所述二维半导体层所在平面,在所述M个叠层单元中相邻的两个叠层单元的侧壁之间设置有绝缘层,在所述二维材料基选通器通电导通时所述M个叠层单元为M个反向并联的肖特基二极管结构。
5.根据权利要求2所述的自旋轨道扭矩磁随机存储单元,其中,所述参考层具有在面内或面外的磁化方向;所述自由层具有与所述参考层相平行或反平行的磁化方向。
6.根据权利要求1所述的自旋轨道扭矩磁随机存储单元,其中,所述选通器材料为二维范德华材料,选自WS2或WSe2;所述选通器的开启电压为-1V或1V;所述选通器的开启电流密度为10MA/cm2;所述选通器厚度的范围为2nm-7nm。
7.根据权利要求2所述的自旋轨道扭矩磁随机存储单元,其中,所述隧穿层的材料为MgO、A12O3、MaAl2O4和h-BN中的一种或多种或二维范德华材料h-BN中的一种或多种;所述自由层材料为二维铁磁材料,选自Fe3GeTe2、FeCo、CrCoPt、CoFeB、CoFe2Al、Mn3Ga或者二维铁磁材料Ni3GeTe2、VSe2、CrI3中的一种或多种;所述反铁磁层的材料选自Fe3GeTe2、IrMn、FeMn、NiMn、CoMn、PtMn,、Co/Pt、FeO、CoO、NiO、MnO中的一种或多种;所述反铁磁层为至少一层;所述铁磁层的材料选自Fe3GeTe2、IrMn、FeMn、NiMn、CoMn、PtMn,、Co/Pt、FeO、CoO、NiO、MnO中的一种或多种;所述铁磁层为至少一层。
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