[发明专利]真空系统中光学元件表面沉积污染物的去除方法

权利要求书

1.一种真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：

1)将射频(RF)离子源和热灯丝型中和器放置到真空系统中，所述的离子源的发射方向朝向所述的光学元件表面，所述的离子源距离光学元件表面距离为15cm-50cm，中和器位于离子源发射出口的后方；

2)所述的真空系统处于真空度高于4.0×10^-4Pa的高真空后，开启离子源和中和器，离子源的工作气体为氩气或氦气，束压为900-1300V，束流为400-1500mA；

3)通过能量计检测激光通过光学元件后能量开始发生衰减时，打开离子源的挡板，对光学元件表面沉积污染物进行轰击，去除表面真空沉积污染；

4)通过能量计检测激光通过光学元件后能量恢复到正常值，关闭离子源的挡板，停止对光学元件表面轰击。

2.根据权利要求1所述的真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，其特征在于所述的光学元件为光学窗口玻璃、反射镜、增透膜、偏振膜、滤光片、透镜或晶体。