[发明专利]显示装置及其制备方法

说明书

本申请提供一种显示装置及其制备方法，所述显示装置包括基板、遮光层以及彩膜层，所述基板的上表面具有凹凸结构，所述遮光层设置于所述基板上，所述彩膜层设置于所述遮光层上。在本申请中，通过在基板上设置凹凸结构，遮光层覆盖凹凸结构，进而提高遮光层与基板的接触面积，进而提高遮光层与基板之间的润湿性，进而避免了遮光层的剥离，进而提高显示装置的性能。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示装置及其制备方法。

背景技术

目前，在液晶面板中遮光层与基板之间的润湿性不佳，导致遮光层与基板剥离，进而使得液晶面板在使用或进行可靠性测试时容易出现液晶外漏的情况，进而导致可靠性测试失败，进而使得显示装置的良率降低和生产成本高，并影响显示面板的性能。

发明内容

本申请提供一种显示装置及其制备方法，以提高显示装置的性能。

本申请提供一种显示装置，包括：

基板，所述基板的上表面具有凹凸结构；

遮光层，所述遮光层设置于所述基板上；以及

彩膜层，所述彩膜层设置于所述遮光层上。

在本申请所提供的显示装置中，所述凹凸结构的厚度占所述基板的总厚度为5％-20％。

在本申请所提供的显示装置中，所述基板的厚度为1000纳米-500000纳米。

在本申请所提供的显示装置中，所述遮光层的厚度为100纳米-1200纳米。

在本申请所提供的显示装置中，所述凹凸结构的的粗糙度为0.5微米-6微米。

在本申请所提供的显示装置中，所述凹凸结构的面积占所述基板的总面积为0.5％-6％。

本申请还提供一种显示装置的制备方法，包括：

提供一基板；

对所述基板进行处理，所述基板的上表面形成凹凸结构；

在所述基板上形成遮光层；以及

在所述遮光层上形成彩膜层。

在本申请所提供的显示装置的制备方法中，所述对所述基板进行处理，所述基板的上表面形成凹凸结构的步骤中，包括：

对所述基板进行抛光处理，所述基板的上表面形成凹凸结构。

在本申请所提供的显示装置的制备方法中，所述对所述基板进行处理，所述基板的上表面形成凹凸结构的步骤中，包括：

对所述基板进行蚀刻，所述基板的上表面形成凹凸结构。

在本申请所提供的显示装置的制备方法中，所述抛光的能量为4000毫焦每平方厘米-8000毫焦每平方厘米。

本申请提供一种显示装置及其制备方法，所述显示装置包括基板、遮光层以及彩膜层，所述基板的上表面具有凹凸结构，所述遮光层设置于所述基板上，所述彩膜层设置于所述遮光层上。在本申请中，通过在基板上设置凹凸结构，遮光层覆盖凹凸结构，进而提高遮光层与基板的接触面积，进而提高遮光层与基板之间的润湿性，进而避免了遮光层的剥离，进而提高显示装置的性能。

附图说明

为了更清楚地说明本申请中的技术方案，下面将对实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请提供的显示装置的第一种结构剖视图。

图2为本申请提供的显示装置的结构俯视图。