[发明专利]载置台、基板处理装置以及载置台的组装方法

权利要求书

1.一种载置台，其用于载置基板，其中，

该载置台包括：

载置台主体，该载置台主体在上表面载置基板；

盖构件，其覆盖所述载置台主体的上表面的外缘部；以及

位置偏移防止用构件，其设于所述载置台主体的上表面与所述盖构件的下表面之间，能够滚动或者滑动，

在所述载置台主体的上表面形成有收容所述位置偏移防止用构件的主体侧凹部，

在所述盖构件的下表面形成有收容被所述主体侧凹部收容的所述位置偏移防止用构件的盖侧凹部，

所述主体侧凹部和所述盖侧凹部中的至少任一者形成为具有沿着所述载置台主体的径向的倾斜面的研钵状。

2.根据权利要求1所述的载置台，其中，

所述位置偏移防止用构件具有与所述倾斜面抵接的曲面。

3.根据权利要求1或2所述的载置台，其中，

所述位置偏移防止用构件沿着所述倾斜面滚动或者滑动。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的载置台，其中，

所述位置偏移防止用构件的形状为正圆球、扁球或者侧面观察呈圆角方形形状。

5.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括权利要求1～4中任一项所述的载置台。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

在所述载置台主体设有沿上下方向贯通该载置台主体的贯通孔，

该基板处理装置还包括：

基板支承销，其贯穿于所述贯通孔，并且构成为能够自所述载置台主体的上表面经由所述贯通孔突出；以及

销支承构件，其构成为能够支承所述基板支承销，

所述销支承构件安装于所述盖构件。

7.根据权利要求5或6所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括处理容器，所述载置台配设于该处理容器的内部，

所述盖构件将所述处理容器内划分成所述载置台主体的上方的空间和该载置台主体的下方的空间。

8.一种载置台的组装方法，该载置台用于载置基板，其中，

所述载置台包括：

载置台主体，该载置台主体在上表面载置基板；

盖构件，其覆盖所述载置台主体的上表面的外缘部；以及

位置偏移防止用构件，其设于所述载置台主体的上表面与所述盖构件的下表面之间，能够滚动或者滑动，

在所述载置台主体的上表面形成有收容所述位置偏移防止用构件的主体侧凹部，

在所述盖构件的下表面形成有收容被所述主体侧凹部收容的所述位置偏移防止用构件的盖侧凹部，

所述主体侧凹部和所述盖侧凹部中的至少任一者形成为具有沿着所述载置台主体的径向的倾斜面的研钵状，

该组装方法包含以下工序：

以在所述载置台主体的所述主体侧凹部内收容所述位置偏移防止用构件的一侧的部分、且在所述盖构件的所述盖侧凹部收容该位置偏移防止用构件的另一侧的部分的方式，将该载置台主体和该盖构件相互组装。