[发明专利]基于二氟化硼配位的扩环卟啉配合物的近红外发光材料有效

专利信息
申请号: 202010601204.6 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111635423B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 杨云芳;房晓莉;佘远斌;周春松;李贵杰 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C07F5/02 分类号: C07F5/02;C09K11/06;A61K41/00;A61K49/10
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基于 氟化 硼配位 卟啉 配合 红外 发光 材料
【权利要求书】:

1.一种基于苯并扩环卟啉的二氟化硼配合物近红外发光材料,其特征在于,所述苯并扩环卟啉的二氟化硼配合物具有通式(I)的结构:

其中,R1、R2、R3、R4和R5各自独立地为氢。

2.一种有机发光材料,具有包含权利要求1所述的扩环卟啉二氟化硼配合物近红外分子的发光层,其可用于光动力疗法的光敏剂,核磁成像造影剂。

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