[发明专利]基于二氟化硼配位的扩环卟啉配合物的近红外发光材料有效
申请号: | 202010601204.6 | 申请日: | 2020-06-28 |
公开(公告)号: | CN111635423B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 杨云芳;房晓莉;佘远斌;周春松;李贵杰 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02;C09K11/06;A61K41/00;A61K49/10 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
地址: | 310014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 氟化 硼配位 卟啉 配合 红外 发光 材料 | ||
【权利要求书】:
1.一种基于苯并扩环卟啉的二氟化硼配合物近红外发光材料,其特征在于,所述苯并扩环卟啉的二氟化硼配合物具有通式(I)的结构:
其中,R1、R2、R3、R4和R5各自独立地为氢。
2.一种有机发光材料,具有包含权利要求1所述的扩环卟啉二氟化硼配合物近红外分子的发光层,其可用于光动力疗法的光敏剂,核磁成像造影剂。
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