[发明专利]高粘度材料的涂膜装置和涂膜方法

说明书

本公开提供了一种适用于研发和量产的高粘度材料的涂膜装置，其包括供料模块、预涂模块、涂覆模块、清洗模块和控制模块，供料模块包括分配刀头、刀头压力监控器、储液罐、供液泵、泵压力监控器、吸料阀、出料阀、连接阀和控制阀，预涂模块包括柔性基材、支撑部和收卷滚轮和放卷滚轮，若收卷滚轮转动，柔性基材自放卷滚轮经支撑部向收卷滚轮移动，涂覆模块包括基板承载平台和基板，清洗模块包括刀头清洗槽和刀头清洗夹，控制模块被配置为基于泵压力监控器的压力值、刀头压力监控器的压力值、泵压力监控器的压力值的波动和刀头压力监控器的压力值的波动控制分配刀头的移动和移动速率以及控制吸料阀、出料阀、连接阀和控制阀的开闭。

技术领域

本公开特别涉及一种高粘度材料的涂膜装置和涂膜方法。

背景技术

在现有的曲面和折叠面板制造中，PI膜的生产已成为此领域的关键。PI膜的生产工艺一般包括：PI浆料合成、PI浆料涂敷、PI浆料亚胺化成膜三个步骤。传统非透明PI的成膜方法有浸渍法、流延法、流延拉伸法等，但此类方法并不适合薄膜均一性要求极高的透明PI薄膜的生产。现有的透明PI的成膜方法有旋涂、刮涂、狭缝涂膜等。其中，由于狭缝涂敷成膜均一性良好、适用更大的基板尺寸、生产效率高等优点，已成为柔性面板PI涂敷的主要选择。狭缝涂敷一般分两种方式片式涂敷和卷对卷涂敷。片式涂敷以硬质玻璃为基底，而卷对卷涂敷需要柔性基材做基底，且卷对卷涂敷均一性相对片式涂敷较差，国际上的主流选择为片式涂敷。

片式涂敷大致可分为三步预涂、涂膜、清洗刀头。预涂：即设备启动后，供液系统、分配刀头已填料完毕，分配刀头运动至预涂区，开始进行涂敷操作，由于开始涂膜状态并不稳定，涂敷进行一段时间，液膜形状及均一性达到要求，该预涂操作即完成。涂膜：预涂操作完成之后，设备已进入稳定的涂膜状态，分配刀头运动至玻璃基板上方，开始正式进行涂膜操作。清洗刀头：涂膜操作完成以后，分配刀头运动至清洗区进行清洗。

然而，片式涂敷设备常常用于面板生产中的光刻胶涂敷生成，光刻胶的粘度一半在50cps以下，清洗剂能快速溶解带走残留的光刻胶，但PI浆料的粘度基本都大于7000cps，溶剂对PI浆料的溶解速度也偏慢，使得利用片式涂敷生产PI膜时，存在预涂区不能快速清理高粘度材料残留、需要使用大量的清洗剂的问题以及涂膜均一性变差的问题。

发明内容

本公开有鉴于上述现有技术的状况而完成，其目的在于提供一种能快速清理高粘度材料残留、减少清洗剂的使用量并提高涂膜均一性的高粘度材料的涂膜装置和涂膜方法。