[发明专利]利用单像素成像提取目标全局特征Hu不变矩的方法有效
申请号: | 202010607833.X | 申请日: | 2020-06-29 |
公开(公告)号: | CN111652925B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 王英俭;时东锋;苑克娥;黄见;杨威 | 申请(专利权)人: | 合肥中科迪宏自动化有限公司 |
主分类号: | G06T7/66 | 分类号: | G06T7/66;G06V10/42;G06V10/46 |
代理公司: | 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙) 34125 | 代理人: | 郭华俊 |
地址: | 230000 安徽省合肥市高新区长*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 像素 成像 提取 目标 全局 特征 hu 不变 方法 | ||
利用单像素成像提取目标全局特征Hu不变矩的方法,包括以下步骤:S1、构造(p+q)阶二维函数G(x,y),令二维函数满足:Gsubgt;pq/subgt;(x,y)=xsupgt;p/supgt;ysupgt;q/supgt;;S2、调整p,q的参数值,生成相应的二维函数Gsubgt;pq/subgt;(x,y)调制信息;S3、将生成的二维调制信息发送至光调制系统中,对目标物体的照明光进行调制,产生结构调制光,并用调制光照射目标;S4、利用单像素探测采集系统获取目标透射或反射光的强度值,利用探测获取的强度值来反演获取目标全局特征的Hu不变矩。本发明通过融合单像素成像和提取目标全局特征不变矩的技术,实现对目标全局特征信息的高效快速获取,提升特征矩在新环境、新领域中的使用效率,本发明在目标分析理解和分类识别等领域具有广泛的应用前景。
技术领域
本发明涉及计算成像和提取目标全局特征不变矩的领域,尤其涉及利用单像素成像提取目标全局特征Hu不变矩的方法。
背景技术
在信息处理、模式识别、计算机视觉等领域,一般会通过提取目标的本质特征信息来实现对目标的识别或者跟踪。那么目标的本质特征信息包括什么,怎样来提取是该过程中关键的两个问题。首先目标图像可以反映出目标的空间信息、亮度信息和光谱信息等。但是这些特征信息都会随着目标位置的改变而改变,并且受外界环境影响较大,并不能反映目标的本质特征。
发明内容
为实现利用单像素成像来探测目标Hu不变矩信息,本发明提供利用单像素成像提取目标全局特征Hu不变矩的方法,本发明采用的技术方案包括以下步骤:
S1、构造(p+q)阶二维函数G(x,y),令二维函数满足:Gpq(x,y)=xpyq;
S2、调整p,q的参数值,生成相应的二维函数Gpq(x,y)调制信息;
S3、将生成的二维调制信息发送至光调制系统中,对目标物体的照明光进行调制,产生结构调制光,并用结构调制光照射目标;
S4、利用单像素探测采集系统获取目标透射或反射光的强度值,利用探测获取的强度值来反演获取目标全局特征的Hu不变矩。
本发明的优点在于:本发明将关注点由获取目标图像转换到提取图像矩,不仅提取目标的本质特征,还降低了对数据采集量的要求。图像矩是对目标在特征空间所包含数学关系的一种描述,也是一种重要的目标特征信息。随着目标做平移、旋转和缩放变换,由图像矩构造而成的目标特征Hu不变矩的值基本保持不变。本发明利用单像素成像的原理来提取目标全局特征Hu不变矩,其中单像素成像属于计算成像范畴,该方法使用时空变换的光场照射物体,通过单像素探测器获取透射或反射光的强度值,最后利用相应的算法得到目标信息,实现对目标全局特征信息的高效快速获取,提升特征矩在新环境新领域中的使用效率。由于单像素探测器具有较强的光敏感度和较宽的光谱响应范围,因此单像素成像在微弱光成像、不可见光成像等领域有着重要的应用前景。
全局特征Hu不变矩是一种重要的目标特征信息,不变矩的值不受目标平移、旋转和缩放变换的影响。利用单像素成像方法提取目标全局特征Hu不变矩,不仅能实现高效快速的获取目标特征Hu不变矩,还能扩展特征矩的应用环境,如弱光、宽光谱等。为提取目标全局特征Hu不变矩提供了一种新方法,在目标分析理解和分类识别等领域内有着重要的应用价值和前景。
附图说明
图1为利用单像素成像原理提取目标全局特征Hu不变矩方法流程图。
图2为单像素成像探测过程中生成的二维调制信息图。
图3为根据一个具体实施案例提取全局特征Hu不变矩。
具体实施方式
如图1所示,利用单像素成像提取目标全局特征Hu不变矩的方法,包括以下步骤:
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