[发明专利]载车平台异形曲面共形阵天线设计方法有效
申请号: | 202010608998.9 | 申请日: | 2020-06-29 |
公开(公告)号: | CN111817027B | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 杨龙;周文涛;刘田;仇三山;曾富华 | 申请(专利权)人: | 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) |
主分类号: | H01Q21/20 | 分类号: | H01Q21/20;H01Q1/32 |
代理公司: | 成飞(集团)公司专利中心 51121 | 代理人: | 郭纯武 |
地址: | 610036 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 平台 异形 曲面 共形阵 天线 设计 方法 | ||
1.一种载车平台异形曲面共形阵天线设计方法,其特征在于包括如下步骤:根据抛物球柱面异形曲面阵列流型,将异形曲面共形阵列流型分为抛物面部分、部分球面部分和柱面部分,顶部为抛物部分,抛物面下部为采用圆弧过渡连接柱面的部分球面部分,按照天线子阵内天线单元半波长均匀排布的规则,抛物面部分划分为从上抛物面第一层到下抛物面第N1θi层,球面部分划分为梯形、准矩形两种子阵类型,在俯仰向每层的方位角φ=0°建立xyz三维直角坐标系,构建抛物球柱面构成的异形曲面共形阵列,且抛物面部分从上到下分为N1θi层,球面部分从上部球面第一层到下部N2θi层,柱面部分从上部柱面第一层到下部N3θi层,得到抛物球柱面构成的异形曲面阵列流型;在异形曲面阵列流型的基础上,按照天线子阵内天线单元半波长均匀排布的规则构建天线子阵,建立基于曲面子阵级的异形曲面天线阵列;然后以曲面子阵作为基本单元,将天线子阵排布到异形曲面共形阵上,在构建的异形曲面阵列流型的基础上,按照等面积区域中心排布规则,得到基于曲面子阵级的异形曲面天线阵列,其中,N1θi,N2θi,N3θi为数学代号。
2.根据权利要求1所述的载车平台异形曲面共形阵天线设计方法,其特征在于:建立工作频率f=1.9GHz-2.5GHz的异形曲面共形天线阵列的坐标,并且将异形曲面共形天线阵列流型分为抛物面部分、部分球面部分和柱面部分三部分:按波长λ,柱面部分柱面高度为h2,h2=7.2λ,抛物面部分高度为h0,h0=0.75λ,部分球面部分高度h1,球面高度为h1=6.8λ,球面高度削减比例α=0.82,则h0+h1=7.55λ=α*r0,其中,r0为球柱面半径。
3.根据权利要求2所述的载车平台异形曲面共形阵天线设计方法,其特征在于:抛物面部分为旋转抛物面,抛物面部分对应的母线由以下计算公式确定:z=-4py2+q,q=α*r0,q为抛物面顶点的值,部分球面部分为旋转球面,部分球面部分对应的母线由以下计算公式确定:y2+z2=r02,z∈[0,h1],其中,z表示抛物面的母线沿Z轴方向坐标,y表示球面的母线沿Y轴方向的坐标,p表示抛物线的焦点,h0为抛物面部分高度,h1为球面高度,α为球面高度削减比例,r0为球柱面半径。
4.根据权利要求3所述的载车平台异形曲面共形阵天线设计方法,其特征在于:旋转柱面部分对应的母线由以下计算公式确定:x=r0,y∈[-r0,r0],其中,x表示柱面的母线沿x轴方向的坐标。
5.根据权利要求3所述的载车平台异形曲面共形阵天线设计方法,其特征在于:根据共形阵上坐标点a(0,0,h0+h1)、c(0,r0,0)分别确定旋转抛物面、旋转球面和旋转柱面的母线方程,抛物面部分对应的母线方程为:z=-1.5625×10-4·y2+7.5λ,z∈[6.8λ,7.5λ],柱面对应的母线方程为:x=9.2λ,z∈[0,-7.2λ],y∈[-9.2λ,9.2λ]。
6.根据权利要求1所述的载车平台异形曲面共形阵天线设计方法,其特征在于:在三维直角坐标系原点θ=0,φ=0的位置用(r、θ、φ)这3个有序实数来表示球坐标,任意一点的坐标用(x、y、z)坐标表示,r为球面半径,极角θ是z轴与r的夹角,它的取值范围是[0,π],z轴上任何点的极角都是0;方位角φ由x轴与y轴确定的平面上起始于x轴,沿逆时针方向量出的角度,将球面上的任意一点的三维直角坐标记做P(x,y,z),球坐标记做P(r,θ,φ)。
7.根据权利要求1所述的载车平台异形曲面共形阵天线设计方法,其特征在于:抛物面部分从上到下共N1θi层、球面部分从上到下共N2θi层、柱面部分从上到下共N3θi层,天线子阵内设置单元间距d0为0.5λ,λ为2.2GHz对应波长。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所),未经西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010608998.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种全息图显示方法、装置及近眼显示系统
- 下一篇:一种PC透光砖的生产工艺