[发明专利]靶向纳米颗粒及制备方法、应用、系统、设备及存储介质

权利要求书

1.式(I)所示共轭聚合物在制备靶向纳米材料中的应用；

其中，Ar₁选自：

Ar₂选自：

其中，R₂、R₃和R₈各自独立地选自C_2-16烷基；

n为5-1000的整数；

所述共轭聚合物的吸收波长在800nm～1100nm；

所述靶向纳米材料为靶向纳米颗粒，包括所述共轭聚合物和包覆所述共轭聚合物的两亲性聚合物，所述两亲性聚合物为PEG衍生物，所述PEG衍生物选自：Lipid-PEG、DSPE-PEG、PS-PEG-COOH中的一种或多种；

所述靶向纳米材料在近红外脉冲激光的辅助下，能够产生光声力效应。

2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，R₂为-C₂H₅；R₃为-C₄H₉；R₈为-C₈H₁₇。

3.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述共轭聚合物为经荧光基团修饰的共轭聚合物。

4.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述两亲性聚合物为Lipid-PEG或DSPE-PEG，所述共轭聚合物和两亲性聚合物的质量比为1:(1.8～2.2)。

5.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述DSPE-PEG为DSPE-PEG₂₀₀₀。

6.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述靶向纳米颗粒采用包括如下步骤的制备方法获得：

将所述共轭聚合物、所述两亲性聚合物和有机溶剂混合，得到混合液；

将所述混合液与水混合，并进行超声处理；

除去所述有机溶剂；

其中，所述两亲性聚合物为PS-PEG-COOH，在所述混合液中所述共轭聚合物的浓度为45μg/mL～55μg/mL，所述两亲性聚合物的浓度为8μg/mL～12μg/mL。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，将所述混合液与水混合，并进行超声处理的步骤中，所述混合液和水的体积比为1：(1.8～2.2)。

8.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，所述的制备方法还包括如下步骤：将残留液过滤，收集滤液，所述滤液为包含有所述靶向纳米材料的悬浮液。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，采用0.1μm～0.3μm的针头式过滤器。

10.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，超声功率为72W～82W。

11.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，采用透析或旋转蒸发的方法除去所述有机溶剂。

12.根据权利要求2所述的应用，其特征在于，荧光基团修饰使用的荧光试剂为：

BTPEBT、TPE-TPAFN或近红外荧光pDA荧光试剂。

13.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述靶向纳米颗粒的粒径为15nm～80nm。

14.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述靶向纳米颗粒的粒径为15nm～60nm。

15.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述靶向纳米颗粒的粒径为18nm～50nm。