[发明专利]一种羟基化石墨烯及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010614203.5 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111892046A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 袁小亚;杨森 | 申请（专利权）人： | 重庆交通大学 |
| 主分类号： | C01B32/194 | 分类号： | C01B32/194 |
| 代理公司： | 重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙) 50213 | 代理人： | 谢毅 |
| 地址： | 400074 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 羟基 化石 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：将多孔洞结构的热还原型氧化石墨烯与碱性化合物固体粉末以1:10～1:30的质量比混合，进行研磨；
S2：将研磨产物洗涤至中性，经干燥得到羟基化石墨烯。
2.如权利要求1所述的一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述碱性化合物为氢氧化钾或氢氧化钠。
3.如权利要求2所述的一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中所述多孔洞结构的热还原型氧化石墨烯是以氧化石墨作为原料，在500℃-1000℃的环境下制备得到。
4.如利要求2所述的一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中的研磨条件为：常温下以1000rpm-1200rpm的速度研磨8～12h。
5.如权利要求2所述的一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中采用抽滤方式将研磨产物洗涤至中性。
6.如权利要求2所述的一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中的干燥条件为：在60℃-80℃的温度下干燥24h-36h。
7.如权利要求2所述的一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，加入惰性气体进行研磨。
8.如权利要求2所述的一种羟基化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述多孔洞结构的热还原型氧化石墨烯与碱性化合物固体粉末的质量比为1:20。
9.一种羟基化石墨烯，其特征在于，所述羟基化石墨烯采用如权利要求1-8任一所述的一种羟基化石墨烯的制备方法制备而成。
10.如权利要求9所述的一种羟基化石墨烯的应用，其特征在于，所述羟基化石墨烯应用于纳米材料领域及工程领域。
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