[发明专利]电子设备壳体及其制作方法和电子设备

权利要求书

1.一种电子设备壳体，其特征在于，所述电子设备壳体划分为至少一个夜光效果区域和至少一个炫彩渐变效果区域，所述电子设备壳体包括：

基材层；

炫彩渐变层，所述炫彩渐变层在所述基材层上的正投影与所述炫彩渐变效果区域至少部分重叠；和

夜光层，所述夜光层在所述基材层上的正投影与所述夜光效果区域至少部分重叠；

其中，所述夜光层为含有稀土荧光粉的有机薄膜，形成所述有机薄膜的材料包括聚氨酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯和聚氯乙烯中的至少一种；

基于所述夜光层的总质量，所述稀土荧光粉的质量百分含量为10％～40％。

2.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，满足以下任意一种：

(1)所述炫彩渐变层设置在所述基材层的部分表面上，所述夜光层设置在所述基材层的部分表面上，且所述炫彩渐变层与所述夜光层同层设置；

(2)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述炫彩渐变层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述炫彩渐变层同层设置，所述夜光层设置在所述炫彩渐变层远离所述基材层的表面上和所述透明无色层远离所述基材层的表面上；

(3)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述夜光层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述夜光层同层设置，所述炫彩渐变层设置在所述夜光层远离所述基材层的表面上和所述透明无色层远离所述基材层的表面上；

(4)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述炫彩渐变层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述炫彩渐变层同层设置，所述夜光层设置在所述透明无色层远离所述基材层的表面上；

(5)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述夜光层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述夜光层同层设置，所述炫彩渐变层设置在所述透明无色层远离所述基材层的表面上。

3.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述电子设备壳体包括多个所述炫彩渐变效果区域，至少两个所述炫彩渐变效果区域的炫彩渐变效果不同。

4.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述炫彩渐变层和所述透明无色层一体成型。

5.根据权利要求4所述的电子设备壳体，其特征在于，所述炫彩渐变层包括：

第一UV转印纹理层，所述第一UV转印纹理层设置在所述基材层的部分表面上；

第一镀膜层，所述第一镀膜层设置在所述第一UV转印纹理层远离所述基材层的表面上；和

颜色层，所述颜色层设置在所述第一镀膜层远离所述第一UV转印纹理层的表面上。

6.根据权利要求5所述的电子设备壳体，其特征在于，所述炫彩渐变层满足以下条件的至少之一：

所述第一UV转印纹理层的厚度为6μm～14μm；

所述第一镀膜层的厚度为30nm～120nm；

形成所述第一镀膜层的材料包括ZrO₂、Nb₂O₅、Ti₃O₅中的至少一种；

所述颜色层的厚度为3μm～15μm；

所述炫彩渐变层的透光率小于3％。

7.根据权利要求4所述的电子设备壳体，其特征在于，所述透明无色层包括：

第二UV转印纹理层，所述第二UV转印纹理层设置在所述基材层的部分表面上；

第二镀膜层，所述第二镀膜层设置在所述第二UV转印纹理层远离所述基材层的表面上；和

无色层，所述无色层设置在所述第二镀膜层远离所述第二UV转印纹理层的表面上。