[发明专利]一种SiC晶圆抛光液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010620169.2 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111748287A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 汪为磊;刘卫丽;霍军朝;宋志棠;许永辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司;浙江新创纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 魏峯;黄志达 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 sic 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种SiC晶圆抛光液，其特征在于：按重量百分比，包括如下组分：
液相载体 35-90％；
磨料颗粒 0.01-40％；
氧化剂 0.01-30％；
其中，所述磨料颗粒为α氧化铝颗粒或者球形二氧化硅颗粒。
2.根据权利要求1所述的一种SiC晶圆抛光液，其特征在于：所述液相载体为水。
3.根据权利要求1所述的一种SiC晶圆抛光液，其特征在于：所述α氧化铝颗粒形貌为蠕虫状或片状。
4.根据权利要求1所述的一种SiC晶圆抛光液，其特征在于：所述α氧化铝颗粒的粒径分布D50为0.3μm-1.5μm。
5.根据权利要求1所述的一种SiC晶圆抛光液，其特征在于：所述球形二氧化硅颗粒的粒径为4-150nm。
6.根据权利要求1所述的一种SiC晶圆抛光液，其特征在于：所述氧化剂选自NaClO、KMnO4、K2Cr2O7、双氧水、NaClO4、NaBrO4、KHO5、Na2O2、K2O2、MgO2、CaO2、BaO2、NaNO3、过醋酸、过甲酸、过氧化二枯基、过氧化苯甲酰、过氧化甲乙酮、过氧化环己酮、过氧化叔丁醇、过苯甲酸特丁酯中的一种或几种。
7.一种如权利要求1所述的SiC晶圆抛光液的制备方法，包括如下步骤：
按配比将各组分混合，即得SiC晶圆抛光液。
8.一种如权利要求1所述的SiC晶圆抛光液的应用。
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