[发明专利]阴离子交换膜的制备方法以及阴离子交换膜

权利要求书

1.一种阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，所述阴离子交换膜的制备方法包括以下步骤：

使用多元酰氯溶液对基膜的表面进行改性，其中，所述基膜包括季铵基团以及羟基；所述多元酰氯溶液包括均苯三甲酰氯的正己烷溶液，对苯二甲酰氯的正己烷溶液以及间苯二甲酰氯的正己烷溶液中的至少一种；

持续3min~5min后，擦干所述基膜的表面的液体，得到处理后的所述基膜；

将处理后的所述基膜在40^oC~60^oC下加热30min~60min，得到阴离子交换膜；

所述基膜的制备步骤为：

将质量百分比为5%~20%的季铵化聚合物溶于质量百分比为80%~95%的第一有机溶剂，以得到第一溶液，其中，所述第一有机溶剂包括二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮以及N,N-二甲基甲酰胺中的至少一种；

将所述第一溶液加工成所述基膜；

所述季铵化聚合物通过以下步骤制备得到：

将质量百分比为10%~20%的卤甲基化聚合物溶于质量百分比为77%~89%的第二有机溶剂中，得到第二溶液，其中，所述第二有机溶剂包括二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮以及N,N-二甲基甲酰胺中的至少一种；所述卤甲基化聚合物为溴甲基化聚苯醚；

在所述第二溶液中加入质量百分比为1%~3%的N-甲基二乙醇胺，并在50^oC~60^oC下反应12h~24h得到第三溶液；

在所述第三溶液中加入10mL~20mL甲苯，并收集析出的沉淀；

使用乙醚洗涤所述沉淀，得到所述季铵化聚合物。

2.如权利要求1所述的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，所述使用多元酰氯溶液对基膜的表面进行改性的步骤包括：

将多元酰氯溶液浸润在所述基膜的表面，以对所述基膜进行改性；或者，

将所述基膜浸泡在多元酰氯溶液中，以对所述基膜进行改性。

3.如权利要求1所述的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，所述将所述第一溶液加工成所述基膜的步骤包括：

将所述第一溶液滴加在平板上；

将所述平板在50^oC~60^oC下加热10h~12h，得到所述基膜。

4.一种阴离子交换膜，其特征在于，所述阴离子交换膜由如权利要求1至3任一项所述的阴离子交换膜的制备方法制备而成。