[发明专利]显示装置的对准检查装置及对准检查方法在审
申请号: | 202010625799.9 | 申请日: | 2020-07-01 |
公开(公告)号: | CN112735960A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 金正洙;金头焕;尹智焕;赵尹衡;吕海九;李在爀 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L27/32 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 辛雪花;周艳玲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 对准 检查 装置 方法 | ||
1.一种显示装置的对准检查装置,包括:
支撑台,供安装显示装置,所述显示装置包括第一显示基板及配置在所述第一显示基板的上方的第二显示基板;
光源部,配置在所述支撑台的上方,用于向所述支撑台所处的一侧发出检查光;
相机部,配置在所述支撑台的上方,用于拍摄所述第一显示基板及所述第二显示基板并生成图像数据;以及
控制部,用于由所述图像数据计算所述第一显示基板的第一图案及所述第二显示基板的第二图案,并利用所述第一图案及所述第二图案判断所述第一显示基板和所述第二显示基板是否对准不良。
2.根据权利要求1所述的显示装置的对准检查装置,其中,
所述检查光为红外线或近红外线。
3.根据权利要求1所述的显示装置的对准检查装置,其中,
所述显示装置包括多个像素,
每一个所述像素包括:包括在所述第一显示基板中的像素电极层;包括在所述第二显示基板中的遮光部件;以及包括在所述第二显示基板中且配置在由所述遮光部件划定的区域中的滤色层,
所述第一图案为所述像素电极层,所述第二图案为所述滤色层。
4.根据权利要求3所述的显示装置的对准检查装置,其中,
所述控制部用于测量所述第一图案与所述第二图案之间的间隔,并通过比较经测量的所述间隔和临界值,来判断所述第一显示基板和所述第二显示基板是否对准不良。
5.根据权利要求3所述的显示装置的对准检查装置,其中,
所述检查光为对所述遮光部件的透射率低且对所述滤色层及所述像素电极层的透射率高的波段的光。
6.一种显示装置的对准检查方法,包括以下步骤:
准备显示装置,所述显示装置包括第一显示基板及配置在所述第一显示基板的上方的第二显示基板;
从所述显示装置的上方向所述显示装置所处的一侧发出检查光;
在所述显示装置的上方拍摄所述显示装置并计算第一图案及第二图案,并且测量所述第一图案与所述第二图案之间的距离;以及
通过比较经测量的所述距离和临界值,来判断所述第一显示基板和所述第二显示基板是否对准不良,
所述显示装置包括多个像素,
每一个所述像素包括:包括在所述第一显示基板中的像素电极层;包括在所述第二显示基板中的遮光部件;以及包括在所述第二显示基板中且配置在由所述遮光部件划定的区域中的滤色层。
7.根据权利要求6所述的显示装置的对准检查方法,其中,
所述第一图案为所述像素电极层,
所述第二图案为所述滤色层。
8.根据权利要求7所述的显示装置的对准检查方法,其中,
测量所述第一图案与所述第二图案之间的距离为测量所述第一图案和所述第二图案的彼此相对的边之间的距离。
9.根据权利要求6所述的显示装置的对准检查方法,其中,
所述检查光为对所述遮光部件的透射率低且对所述滤色层及所述像素电极层的透射率高的波段的光。
10.根据权利要求6所述的显示装置的对准检查方法,其中,
判断所述第一显示基板和所述第二显示基板是否对准不良的步骤包括:
经测量的所述距离为所述临界值以上时判断所述显示装置为次品的步骤;以及
经测量的所述距离小于所述临界值时判断所述显示装置为合格品的步骤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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