[发明专利]一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室有效
申请号: | 202010626053.X | 申请日: | 2020-07-01 |
公开(公告)号: | CN111780402B | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 张晶 | 申请(专利权)人: | 宁波晶成机械制造有限公司 |
主分类号: | F24H1/16 | 分类号: | F24H1/16;F24H9/02;F24H9/18;F23D14/02;F23D14/62;C23C26/00 |
代理公司: | 北京栈桥知识产权代理事务所(普通合伙) 11670 | 代理人: | 余柯薇 |
地址: | 315000 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 高热 辐射 系数 镀层 热水器 燃烧室 | ||
1.一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室,其特征在于,包括燃烧室主体(1)、换热结构(2)、热辐射利用结构(3);
所述燃烧室主体(1)包括内壳体(11)和外壳体(12),所述内壳体(11)和外壳体(12)通过上封盖(13)和下封盖(14)相连,在内壳体(11)和外壳体(12)之间构成封闭环形通道(15),内壳体(11)内部设有燃烧室腔体(16),内壳体(11)顶部设有燃气进口(17)和空气进口(18),内壳体(11)底部设有排烟口(19);
所述换热结构(2)包括以所述燃烧室腔体(16)中轴线为中心呈螺旋回形结构分布的换热板(20),设置在所述换热板(20)上的若干个换热翅片(21),以及开设在所述换热板(20)上用于气体流通的多个导流孔(22),以及用于点燃燃气的多个火口(23);
所述热辐射利用结构(3)包括位于所述环形通道(15)内的多个定位卡座(31)、传热介质管(32)和多个热辐射反射罩(33),多个所述定位卡座(31)的底部均紧密贴合在所述内壳体(11)外壁上,定位卡座(31)的开口端用于将所述传热介质管(32)呈螺旋状固定在内壳体(11)外壁上,所述传热介质管(32)的上端贯穿所述上封盖(13)用于连接传热介质出口(34),传热介质管(32)的下端贯穿所述下封盖(14)用于连接传热介质入口(35),多个所述热辐射反射罩(33)紧密贴合在所述外壳体(12)的内壁上,热辐射反射罩(33)上喷涂有高热辐射系数镀层,用于将内壳体(11)向外辐射的热量吸收并反射至传热介质管(32)进行热量二次利用;
所述换热板(20)的外圈层紧密贴合在所述内壳体(11)内壁上,并以内壳体(11)的中轴线为中心逐层向内收卷,形成多圈层的螺旋回形结构,相连两个圈层之间间隔一定距离以形成气体混合通道(27),所述换热翅片(21)垂直固定在换热板(20)的每个圈层的表面上,且每一层气体混合通道(27)内的换热翅片(21)均成交叉状;
所述换热板(20)的内部设有空气流通腔道(24),且换热板(20)的表面上设有与所述空气流通腔道(24)连通的空气喷口(25),换热板(20)的内圈层上端与所述空气进口(18)相连,用于引入空气到所述空气流通腔道(24),再从所述空气喷口(25)均匀喷洒到所述燃烧室腔体(16)内与燃气混合。
2.如权利要求1所述的一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室,其特征在于,所述空气喷口(25)上设有用于引导空气喷射方向且带有与所述换热板(20)呈一定夹角的导流片(26)。
3.如权利要求1所述的一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室,其特征在于,所述定位卡座(31)的底板(311)焊接在所述内壳体(11)外壁,所述底板(311)的两侧通过侧板(312)连接有与所述传热介质管(32)外形相适配的半圆形弧形板(313),所述底板(311)、侧板(312)以及半圆形弧形板(313)均采用导热材质一体制成。
4.如权利要求3所述的一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室,其特征在于,由所述底板(311)、侧板(312)以及半圆形弧形板(313)围城的密闭空腔内填充有保温蓄热填料(314)。
5.如权利要求4所述的一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室,其特征在于,所述保温蓄热填料(314)包括采用高分子固-固相变材料。
6.如权利要求1所述的一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室,其特征在于,所述热辐射反射罩(33)是有多个弧形罩体(331)焊接而成,所述弧形罩体(331)的开口朝向对应的所述传热介质管(32)。
7.如权利要求1所述的一种基于高热辐射系数镀层的热水器燃烧室,其特征在于,所述镀层的制备方法包括以下步骤:
S1:按重量组份计,取20-30份体积百分比为25%的纳米四氧化三铁分散液和70-80份体积百分比为25%的纳米三氧化二铝分散液混合,加入8-10份水性粘合剂,搅拌均匀的到浆料;
S2:将所述浆料均匀涂抹在热辐射反射罩(33)表层,热辐射反射罩(33)的基体材质为氮化硅,然后放入真空炉内升高温度至1850-1950℃烧结1-2h,冷却后,得到镀层。
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