[发明专利]一种偏振器件及其制备方法

权利要求书

1.一种偏振器件，其特征在于，包括：支撑层（101）和模式筛选层，

所述支撑层（101）用于支撑所述模式筛选层；所述支撑层（101）为独立的支撑衬底；

所述模式筛选层包括光吸收层和光隔离层（103），所述光吸收层设置在所述支撑层（101）上，所述光隔离层（103）设置在所述光吸收层上；

所述光吸收层用于吸收预设光波导模式的光；

所述光吸收层为金属光吸收层（102）；所述光在所述金属光吸收层（102）中传播时会因热损耗而衰减；

所述金属光吸收层（102）为单层金属层或多层金属层；

所述光隔离层（103）的厚度为300nm-5μm；

所述偏振器件还包括光波导介质层，所述光波导介质层设置在所述光隔离层（103）上，所述光波导介质层中设有至少一个光波导结构（104）。

2.根据权利要求1所述的偏振器件，其特征在于，所述金属光吸收层（102）的材料包括金、钛、铜、铂、镍、铬中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的偏振器件，其特征在于，所述金属光吸收层（102）的厚度为2nm-50nm。

4.根据权利要求1所述的偏振器件，其特征在于，所述光隔离层（103）的折射率小于所述光波导介质层。

5.根据权利要求4所述的偏振器件，其特征在于，所述光波导介质层的材质包括铌酸锂、石英、硅、二氧化硅、金刚石、碳化硅、氮化硅。

6.根据权利要求5所述的偏振器件，其特征在于，所述光波导结构（104）包括矩形波导结构、脊形波导结构、梯形波导结构、弧形波导结构中的至少一种。

7.根据权利要求1或6所述的偏振器件，其特征在于，所述光隔离层（103）的材质包括二氧化硅、二氧化钛、空气腔、玻璃介质中的至少一种。

8.一种偏振器件的制备方法，其特征在于，包括：

在支撑层（101）上制作金属光吸收层（102）；所述支撑层（101）为独立的支撑衬底；光在所述金属光吸收层（102）中传播时会因热损耗而衰减；所述金属光吸收层（102）为单层金属层或多层金属层；

在所述金属光吸收层（102）上制作光隔离层（103）；所述光隔离层（103）的厚度为300nm-5μm；

在所述光隔离层（103）上制作光波导介质层；

在所述光波导介质层中制作光波导结构（104）。