[发明专利]压印模具制造方法

说明书

本发明提供一种压印模具制造方法。压印模具制造方法，包含：设置模具图案层于基材上；于模具图案层上设置第一硬掩膜层，第一硬掩膜层具有一个或多个第一镂空区域；在模具图案层形成第一模具图案，第一模具图案的范围与第一镂空区域于模具图案层的垂直投影范围完全重迭；去除第一硬掩膜层；于模具图案层上设置第二硬掩膜层，第二硬掩膜层具有一个或多个第二镂空区域，第二镂空区域于模具图案层的垂直投影范围与第一模具图案相邻接；在模具图案层形成第二模具图案，第二模具图案的范围与第二镂空区域于模具图案层的垂直投影范围完全重迭；去除第二硬掩膜层。

本申请为申请人根据母案申请(申请号：201711320745.6，申请日：2017年12月12日，发明名称：压印模具以及压印模具制造方法)所提出的分案申请。

技术领域

本发明关于一种压印(imprint)模具制造方法。

背景技术

在纳米压印光刻技术所需的具有纳米结构图案的模具的制作技术中，常见采用电子束光刻(Electron Beam Lithorgraphy)技术并搭配有机光致抗蚀剂的使用，从而在平面模仁上形成纳米结构图案。然而，使用电子束光刻技术制造纳米结构图案的设备成本高，光刻制作技术费时且仅限于12吋晶圆以下，并不利于制作大面积的具有纳米结构图案的模具。

另一种制备制作大面积的具有纳米结构图案的模具的方法，是通过拼接工艺将多个小模具拼接形成大面积的模具。方式之一，是从一个小母模通过光聚合或类似物制备多个小复制品模具，将所述复制模并排如瓷砖或瓦片的定位处理，以产生一个大面积的模具。但是当小模具紧密排列时，小模具间易有重迭断差现象发生，造成后续作为压印模具时，形成纳米压印无效区域，因而影响纳米压印质量，甚至导致后续纳米结构蚀刻问题。

方式之二是通过重复施作(Step and Repeat)的方式达到放大面积的目标，但是拼接处的实际结构不容易形成完全连续的理想拼接界面，如何达到拼接的精度要求是问题之一。

综上，制作大面积的具有纳米结构图案的模具的成本难以降低，有改善的空间。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种压印模具制造方法，可降低制造成本。

本发明的压印模具具有多个约相同或不同的模具图案，模具图案间不存在高度段差。

本发明的压印模具，其表面包含第一区域、第二区域、以及重迭区域。第一区域内设置有第一模具图案，第一模具图案具有第一线宽及第一深度。第二区域内设置有第二模具图案，第二模具图案具有第二线宽及第二深度。重迭区域位于第一区域及第二区域之间，重迭区域内设置有第三模具图案，第三模具图案具有第三线宽及第三深度。其中，第一模具图案、第二模具图案的顶面位于同一水平，第三线宽≦第一线宽或第二线宽，第三深度≦第一深度或第二深度。

本发明的压印模具，其表面包含第一区域、第二区域、以及重迭区域。第一区域内设置有第一模具图案，第一模具图案具有第一线宽及第一深度。第二区域内设置有第二模具图案，第二模具图案具有第二线宽及第二深度。重迭区域位于第一区域及第二区域之间，重迭区域下凹并具有第三深度。其中，第一模具图案及第二模具图案的顶面位于同一水平，第三深度≦第一深度或第二深度。

本发明的压印模具，其表面包含第一区域以及第二区域。第一区域内设置有第一模具图案，第一模具图案具有第一线宽及第一深度。第二区域内设置有第二模具图案，第二模具图案具有第二线宽及第二深度，第一区域及第二区域之间具有间距。其中，第一模具图案及第二模具图案的顶面位于同一水平，间距与第一线宽及第二线宽均不相等。