[发明专利]撞击流制备纳米二氧化硅有效
| 申请号： | 202010632834.X | 申请日： | 2020-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN111807375B | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 殷鹏刚;吴晓林;刘红亮;陈华祥;刘彩艳 | 申请（专利权）人： | 山东联科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京翔石知识产权代理事务所(普通合伙) 11816 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 262500 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 撞击 制备 纳米 二氧化硅 | ||
1.撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述撞击流法制备纳米二氧化硅的制备方法包括以下步骤：
(1)将二氧化硅胶体加水配置成二氧化硅乳浊液，所述二氧化硅胶体电导率为0.5～5us/cm，二氧化硅乳浊液的浓度为3-15％(w/w)；所述二氧化硅胶体采用沉淀法以硅酸钠与硫酸为原料制备得到；
(2)将二氧化硅乳浊液置于高压射流装置进行喷射，喷射后形成湍流流体体系，使之形成纳米雾化液滴，同时开启冷冻气流吹扫纳米雾化液滴，使形成的纳米液滴迅速固化；
(3)收集固化后的纳米颗粒，减压升温至常温常压后得纳米二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述高压射流装置包括二个高压枪头，所述高压枪头呈180°。
3.根据权利要求1所述的撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述高压射流装置包括三个高压枪头，所述高压枪头呈120°。
4.根据权利要求2或3所述的撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述高压枪头的枪口口径为1-2mm，枪口距离1-4mm。
5.根据权利要求1-3任一种所述的撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述高压射流装置的喷射压力为1-15MPa。
6.根据权利要求1所述的撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述冷冻气流为液体二氧化碳。
7.根据权利要求6所述的撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述液体二氧化碳温度为-40℃~-60℃。
8.根据权利要求6所述的撞击流法制备纳米二氧化硅，其特征在于：所述冷冻气流吹扫压力为1-10MPa。
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