[发明专利]掩膜板、显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：

一第一镂空部，设于所述掩膜板的中部；

一第二镂空部以及一第三镂空部，从所述掩膜板相对的两侧分别延伸并半包围所述第一镂空部；

所述第二镂空部与所述第三镂空部之间具有相互间隔且平行的部分；

一第一曝光区、一第二曝光区以及一第三曝光区，所述第一曝光区和所述第三曝光区分别对应设于所述第二曝光区的两侧；

所述第一镂空部从所述第一曝光区经过所述第二曝光区延伸至所述第三曝光区；

所述第二镂空部具有一第一延伸部，所述第一延伸部从所述第一曝光区延伸至所述第三曝光区；

所述第三镂空部具有一第二延伸部，所述第二延伸部从所述第三曝光区延伸至所述第一曝光区；

所述第一延伸部和所述第二延伸部之间互相平行。

2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，还包括第一拼接区和第二拼接区，所述第一拼接区位于所述第一曝光区和所述第二曝光区之间，所述第二拼接区位于所述第二曝光区和所述第三曝光区之间；

所述第一拼接区和所述第二拼接区分别穿过所述第一镂空部、所述第二镂空部以及第三镂空部，且所述第一拼接区和所述第二拼接区中的图案一致。

3.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基板；

在所述基板上沉积导电材料；

使用如权利要求1-2中任意一项所述的掩膜板进行曝光蚀刻工艺以对所述基板上的导电材料图案化，形成触控层、第一接地线以及第二接地线。

4.如权利要求3所述的显示面板制备方法，其特征在于，在使用所述掩膜板进行曝光蚀刻工艺以对所述基板上的导电材料图案化步骤中包括以下步骤：

第一次曝光：在所述基板上沉积一层导电材料，将所述掩膜板的第三曝光区遮盖住，对所述导电材料进行曝光；

第二次曝光：将所述掩膜板的第一曝光区遮盖住，对所述基板上的导电材料进行第二次曝光；

显影并蚀刻：对曝光后的基板进行显影并蚀刻，形成第一触控区内的走线图案、第一拼接部的走线图案、第二触控区内的走线图案以及第二拼接部的走线图案。

5.如权利要求4所述的显示面板制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：

拼接面板：将所述第一拼接部的走线图案与所述第二拼接部的走线图案拼接形成所述显示面板。

6.一种显示面板，其特征在于，采用权利要求3-5中任一项所述的显示面板制备方法制备形成。