[发明专利]一种化妆品生产用原料研磨装置在审
申请号: | 202010634563.1 | 申请日: | 2020-07-02 |
公开(公告)号: | CN111632655A | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 胡金云 | 申请(专利权)人: | 胡金云 |
主分类号: | B02C1/14 | 分类号: | B02C1/14;B02C2/10;B02C23/10;B07B1/28 |
代理公司: | 合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙) 34126 | 代理人: | 赵荣 |
地址: | 246300 安徽省安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化妆品 生产 原料 研磨 装置 | ||
本发明公开了一种化妆品生产用原料研磨装置,包括底座、支撑柱和研磨框,所述研磨框内设置有研磨组件,所述研磨组件包括研磨电机、主动轴、升降研磨块、旋转研磨块、驱动电机、转轴、齿条导柱和不完全齿轮,研磨电机固定安装在研磨框上方且输出端与主动轴驱动连接,主动组转动安装在研磨框顶部且一端与旋转研磨块固定连接,升降研磨块与研磨框内壁滑动接触且底部连接有多个齿条导柱,所述不完全齿轮固定安装在转轴上且与齿条导柱间歇啮合,转轴转动安装在研磨框内且一端延伸至研磨框外与驱动电机驱动连接,所述升降研磨块中部开设有通孔,通孔内安装有过滤板,通过设置研磨组件,提高了研磨效率和质量。
技术领域
本发明涉及化妆品领域,具体是一种化妆品生产用原料研磨装置。
背景技术
在化妆品制造过程中,原料的细度会对化妆品的质量产生重要的影响,为了提高原料的细度,需要对原料进行研磨,然而现有的化妆品原料研磨装置在研磨过程中,研磨后的原料容易在研磨块和研磨盘之间聚集,不便于排出,容易造成堵塞。
发明内容
本发明的目的在于提供一种化妆品生产用原料研磨装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种化妆品生产用原料研磨装置,包括底座、支撑柱和研磨框,所述研磨框内设置有研磨组件,所述研磨组件包括研磨电机、主动轴、升降研磨块、旋转研磨块、驱动电机、转轴、齿条导柱和不完全齿轮,研磨电机固定安装在研磨框上方且输出端与主动轴驱动连接,主动组转动安装在研磨框顶部且一端与旋转研磨块固定连接,升降研磨块与研磨框内壁滑动接触且底部连接有多个齿条导柱,所述不完全齿轮固定安装在转轴上且与齿条导柱间歇啮合,转轴转动安装在研磨框内且一端延伸至研磨框外与驱动电机驱动连接,所述升降研磨块中部开设有通孔,通孔内安装有过滤板。
作为本发明进一步的方案:所述升降研磨块外壁安装有第一滑块,所述研磨框内壁开设有与第一滑块相配合的第一滑槽,所述第一滑槽内安装有活动贯穿第一滑块的第一导杆。
作为本发明进一步的方案:所述研磨框顶部设置有两个对称布设进料斗。
作为本发明进一步的方案:所述齿条导柱有两个,且均设置有与之配合的不完全齿轮。
作为本发明进一步的方案:所述研磨框底部设置有筛选组件,所述筛选组件包括筛选框、筛板和缓冲弹簧,筛板安装在筛选框内,所述筛选框通过缓冲弹簧设置在研磨框底部,且顶部与齿条导柱相对应。
作为本发明进一步的方案:所述筛选框侧壁安装有第二滑块,所述研磨框侧壁开设有与第二滑块相配合的第二滑槽,所述第二滑槽内设置有活动贯穿第二滑块的第二导杆。
作为本发明进一步的方案:所述研磨框顶部设置有间歇下料组件,所述间歇下料组件包括凸轮、封堵板、限位板、挤压板和复位弹簧,凸轮固定安装在主动轴上,两块限位板固定安装在主动轴两侧,两个封堵板活动设置在限位板内且一端对进料斗间歇封堵,另一端通过挤压板与凸轮活动接触,所述复位弹簧固定安装在挤压板和限位板之间。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
通过设置研磨组件,原料加入到研磨框内,落在升降研磨块和旋转研磨块之间,研磨电机通过主动轴带动旋转研磨块转动,进而对原料进行研磨,同时驱动电机通过转轴带动不完全齿轮转动,通过与不完全齿轮的间歇配合,使得升降研磨块不断升降,改变升降研磨块和旋转研磨块之间的研磨间歇,使得研磨后的原料便于从过滤板的滤孔落下,未完全研磨完成的原料在过滤板上堆积,在升降研磨块升降的过程中继续与旋转研磨块进行研磨,直到从过滤板的滤孔排出,提高了研磨效率和质量。
通过设置筛选组件,当齿条导柱下降过程中碰撞筛选框,在缓冲弹簧的作用下,筛选框抖动对研磨后的原料进行分类筛选,提高了实用性。
附图说明
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