[发明专利]显示模组的制作方法及显示屏

说明书

本发明实施例公开了一种显示模组的制作方法，包括：对半导体外延片进行预处理以形成具备蓝光LED阵列的半导体器件；在所述半导体器件的衬底表面形成第一透明层；刻蚀所述第一透明层以形成暴露所述衬底的第一开口；在所述第一开口暴露的衬底表面以及所述第一透明层表面形成第一量子点层；通过等离子体刻蚀方式刻蚀掉所述第一开口外部的第一量子点层，以保留所述第一开口内部的第一量子点层；形成滤除蓝光的DBR膜层。本发明实施例通过使用等离子体刻蚀方式，使得第一量子点的打印能够实现亚微米尺寸甚至纳米尺寸，提高了LED显示屏制作方法中量子点的打印精度。

技术领域

本发明实施例涉及半导体技术领域，尤其涉及一种显示模组的制作方法及显示屏。

背景技术

LED(Light Emitting Diode，发光二极管)显示屏是经LED点阵组成的电子显示屏，用来显示文字、图像、视频等各种信息。LED显示屏分为单色屏、双色屏和全彩屏，单色屏是指使用一种颜色的LED显示屏，双色屏是指使用两种颜色(红色和绿色)的LED显示屏，全彩屏是指使用三种颜色(红色、绿色和蓝色)的LED显示屏，全彩屏显示的颜色范围最广，因此被广泛应用。

目前是将LED与量子点结合来实现显示屏的全彩化，传统的制作方法是通过喷墨打印的方式将量子点喷涂到蓝光LED或深紫LED器件表面，通过蓝光LED或深紫LED光源激发量子点，使量子点发出红光和绿光，从而实现显示屏的全彩化。但是这种喷墨打印量子点的方式，其打印精度通常仅在微米尺寸范围内，对于亚微米级别的打印，喷墨打印无法实现。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种显示模组的制作方法及显示屏，以提高LED显示屏制作方法中量子点的打印精度。

第一方面，本发明实施例提供一种显示模组的制作方法，包括：

对半导体外延片进行预处理以形成具备蓝光LED阵列的半导体器件；

在所述半导体器件的衬底表面形成第一透明层；

刻蚀所述第一透明层以形成暴露所述衬底的第一开口；

在所述第一开口暴露的衬底表面以及所述第一透明层表面形成第一量子点层；

通过等离子体刻蚀方式刻蚀掉所述第一开口外部的第一量子点层，以保留所述第一开口内部的第一量子点层；

形成滤除蓝光的DBR膜层。

进一步的，所述半导体外延片包括在蓝宝石衬底上依次生长的第一沟道层、蓝光层和第二沟道层。

进一步的，对半导体外延片进行预处理以形成具备蓝光LED阵列的半导体器件，包括：

对半导体外延片进行台面刻蚀，暴露部分第一沟道层，以形成蓝光LED阵列；

在所述蓝光阵列的第二沟道层表面形成电流扩散层；

在所述电流扩散层表面以及暴露的第一沟道层表面形成反射电极；

形成覆盖所述反射电极的钝化层；

刻蚀所述钝化层以形成暴露部分所述反射电极的键合孔；

在形成键合孔后的蓝光LED阵列表面形成保护膜。

进一步的，在所述半导体器件的衬底表面形成第一透明层之前，还包括：

将所述半导体器件的衬底抛光成镜面。

进一步的，形成滤除蓝光的DBR膜层之前，还包括：

在所述第一透明层表面和所述第一量子点层表面形成第二透明层；

刻蚀所述第二透明层以形成暴露所述衬底的第二开口；