[发明专利]一种显示面板及其制作方法有效
申请号: | 202010637479.5 | 申请日: | 2020-07-03 |
公开(公告)号: | CN111785847B | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
发明(设计)人: | 颜志敏;肖志慧;王淑鹏;孟辉辉 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板以及设置于所述基板上的多个发光结构和水氧阻挡层,所述水氧阻挡层环绕所述多个发光结构;
还包括设置于所述基板上的隔离层和封装层;所述隔离层覆盖所述发光结构,且所述隔离层至少部分覆盖所述水氧阻挡层,所述封装层覆盖所述隔离层和所述水氧阻挡层;
其中,所述水氧阻挡层由金属氧化物层与形成所述隔离层的过程中采用的气体发生还原反应形成,且覆盖于所述水氧阻挡层表面的隔离层的厚度小于未覆盖所述水氧阻挡层的所述隔离层的厚度;
所述水氧阻挡层在所述显示面板的非显示区内,沿显示区的四周呈连续状设置。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于:
所述显示面板还包括设置于所述基板上的挡墙,所述挡墙环绕所述多个发光结构,所述水氧阻挡层包括第一水氧阻挡层,所述第一水氧阻挡层设置于所述挡墙远离所述发光结构的一侧。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于:
所述显示面板还包括设置于所述基板上的挡墙,所述挡墙包括至少两个子挡墙,每一所述子挡墙环绕所述多个发光结构;
所述水氧阻挡层还包括第二水氧阻挡层,所述第二水氧阻挡层设置于相邻的两个所述子挡墙之间。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于:
所述水氧阻挡层包括邻近显示面板边缘的第一侧面,所述隔离层包括邻近显示面板边缘的第二侧面,所述第一侧面位于所述第二侧面远离所述发光结构的一侧;沿平行于所述基板表面的方向,所述第一侧面与所述第二侧面之间的距离为30微米至50微米。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于:
所述封装层覆盖所述水氧阻挡层邻近显示面板边缘的第一侧面。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于:
所述封装层覆盖所述隔离层邻近显示面板边缘的第二侧面。
7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于:
沿平行于所述基板表面的方向,所述第一侧面与所述封装层邻近显示面板边缘的第三侧面之间的距离大于30微米。
8.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于:
沿平行于所述基板表面的方向,所述第二侧面与所述封装层邻近显示面板边缘的第三侧面之间的距离大于30微米。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述隔离层包括氧化硅,覆盖所述水氧阻挡层的所述隔离层的厚度小于或等于10纳米,未覆盖所述水氧阻挡层的所述隔离层的厚度为20纳米至200纳米。
10.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基板;其中,所述基板上设置有多个发光结构和金属氧化物层,所述金属氧化物层环绕所述多个发光结构;
形成隔离层和水氧阻挡层;其中,所述隔离层覆盖所述多个发光结构,且所述隔离层至少部分覆盖所述水氧阻挡层;所述金属氧化物层与形成所述隔离层的过程中采用的气体发生还原反应,形成水氧阻挡层,覆盖所述水氧阻挡层的隔离层的厚度小于未覆盖所述水氧阻挡层的所述隔离层的厚度;
形成封装层;所述封装层覆盖所述隔离层和所述水氧阻挡层;
其中,所述水氧阻挡层在所述显示面板的非显示区内呈连续状设置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择